Tinta Polimeros

Minicursos CRQ-IV - 2010
polmeros na formulao de tintas

Conselho Regional de Qumica IV Regio (SP) Apoio: Caixa Econmica Federal
POLI POLI STER SATURADO STER SATURADO
HO R OH + HOCO R - COOH
HO ( -R OCO R COO)
n
H + H20
- C -
||
O
POLISTER
REAO DE POLIMERIZAO LIGAO QUMICA
CARACTERSTICA
TIPO
O CH
3
HO CH
2
/ \ | |
O = C- -C = O + HOOC (CH
2
)
4
COOH + HO CH2 C CH
2
OH + HO C - CH
2
CH
3
| |
CH
3
HO CH
2
ANIDRIDO + CIDO + NPG + TMP
FTLICO ADPICO
O O CH
3
|| || |
.
O C- - C
. .
O - CH
2
C CH2
. .
OOC(CH
2
)
4
CO
. .
CH
2
- C - CH2 O
.
+ 3 H
2
O
| |
CH
3
CH
2
|
CH
3
n
OS ACIDOS GRAXOS APRESENTAM AS SEGUINTES
VANTAGENS:
Menor tempo de processamento.
Eliminao de reaes secundrias que ocorrem durante a
alcolise.
Possibilidade de obter polmeros com maior peso molecular
mdio,associado uma distribuio mais estreita.
OS ACIDOS GRAXOS APRESENTAM AS SEGUINTES
DESVANTAGENS:
Custo mais elevado.
Estocagem mais crtica
Mais corrosivos
Tendncia ao escurecimento.
Menor disponibilidade.
COMPARAO
ENTRE
CIDOS GRAXOS
E
LEOS
NA
PREPARAO
DE
RESINAS
ALQUDICAS
FORMULA FORMULA O DE O DE
RESINAS RESINAS
ALQU ALQU DICAS E POLI DICAS E POLI STERES STERES
USANDO USANDO
A PLANILHA DE C A PLANILHA DE C LCULO LCULO
R
E
S
I
N
A
S

A
C
R
R
E
S
I
N
A
S

A
C
R
L
I
C
A
S
L
I
C
A
S
ACR ACR LICAS TERMOPL LICAS TERMOPL STICAS STICAS
PRINCIPAIS CARACTERSTICAS
Base para as lacas acrlicas
Devido s suas excelentes propriedades:
Pintura para substratos plsticos
Repintura automotiva.
Demarcao rodoviria
Formam filmes atravs de evaporao do solvente
No existe mudana de natureza qumica durante a secagem.
Homopolmero poli (metacrilato de metila).
RESINAS ACR RESINAS ACR LICAS TERMOPL LICAS TERMOPL STICAS STICAS
H CH
3
l l
- C - C -
l l
H COOCH
3
n
Polmero caracterizado por alta alta dureza.
Excelente resistncia intemprie
Necessita ser plastificado externamente e/ ou internamente
Flexibilidade laca
Evitar trincamento
Melhorar a aderncia sobre a tinta de fundo
Ftalato de butila
Butil-acrilato -> (Copolmero)
Condies de polimerizao do poli (metacrilato de metila):
Iniciador: perxido de benzoila.
Temperatura: 90 a 110C.
Solvente: mistura de tolueno /cetonas.
Polmero com alto peso molecular (em torno de 90.000)
Concentraes baixas de iniciador (0,2% a 1,0% do peso do
iniciador).
Distribuio de peso molecular o mais estreito
Maximizar as propriedades do polmero.
Todo o monmero
Todo o solvente
Maior parte do iniciador
So adicionados e aquecidos juntos.
Polimerizao feita temperatura de ebulio do solvente
Baixo teor de slidos (30 - 40%)
Demarca Demarca o Rodovi o Rodovi ria, Verniz para Pedra, Tintas para Botijo de G ria, Verniz para Pedra, Tintas para Botijo de G s s
2,30 Tolueno
100,000 Total
1,30 Tolueno
0,07 Perxido Benzoila
2,30 Tolueno
1,40 AA
47,00 ESTIRENO
12,00 BA
33,00 Tolueno
% EM PESO COMPOSIO
Mximo 13 ndice de Acidez
Maior solubilidade em solventes alifticos
Z5 Z6 Viscosidade
Tolueno Voltil
60 % Slidos
VALORES ESPECIFICAO
ACR ACR LICAS TERMOCUR LICAS TERMOCUR VEIS VEIS
PRINCIPAIS CARACTERSTICAS:
1. Maiores slidos de aplicao quando comparadas com as lacas.
2. Solventes mais baratos que aqueles usados em lacas.
3. Excelente aspecto do revestimento curado.
4. Excelente resistncia qumica a solventes.
5. Grande variedade de monmeros acrlicos disponveis,
Diferentes composies monomricas
Associadas disponibilidade de diferentes agentes reticulantes
Esmaltes com propriedades e caractersticas de amplo espectro de
uso
RESINAS ACR RESINAS ACR LICAS TERMOCUR LICAS TERMOCUR VEIS VEIS
PRINCIPAIS CARACTERSTICAS:
6. Cura revestimento entre o polmero acrlico e o agente reticulante
7. Temperaturas ao redor de 150C e tempos de 30 minutos.
8. Monocomponente:
Resina e o reticulante esto juntos na mesma embalagem
Temperatura ambiente no existe reao entre eles.
9. Bicomponente:
Estrutura tridimensional temperatura ambiente ou a baixa
temperatura:
Resina acrlica hidroxilada + isocianato polifuncional ;
Resina e o reticulante esto separados por embalagens diferentes.
ACRLICO TERMOCURVEL CURA DE UM SISTEMA MONOCOMPONENTE
(1) AMNICA-NH-CH2OH + ACRLICA ACRLICA + H20
| |
COOH AMNICA-NH-CH2 O C = O
(2) AMNICA-NH-CH2OC4H9 + ACRLICA ACRLICA + C4H9OH
| |
COOH AMNICA - NH-CH2 O C = O
(3) AMNICA - NH-CH2OH + ACRLICA ACRLICA + H20
| |
OH AMNICA - NH-CH2 O
(4) AMNICA - NH-CH2OC4H9 + ACRLICA ACRLICA + C4H9OH
| |
OH AMNICA - NH-CH2 O
REAES COM ISOCIANATOS
1. Reaes do grupos carboxila e hidroxila presentes na resina acrlica.
2. Os grupos isocianatos podem ser:
Aromticos (diisocianato detolileno TDI )
Aliftica (hexileno diisocianato, diisocianato de isoforona HDI IPDI)
Aliftico (CYCLO ALIPHATIC DIISOCYANATE Desmodur W).
3. Aromticos no podem ser usados nas tintas onde a resistncia
intemprie e a estabilidade da cor sejam propriedades desejadas.
4. Os sistemas acrlico-uretnicos promovem revestimentos de excelentes
caractersticas com cura temperatura ambiente ou a baixa temperatura.
5. So sistemas de dois componentes e apresentam a seguinte reao de cura:
6. As quantidades dos dois componentes so determinadas de forma
estequiomtrica;
7. A relao NCO: OH pode variar entre 1: 1,25.
8. O componente uretnico uma soluo do aduto em solventes adequados e
isentos de umidade.
9. Os dois componentes so misturados antes da aplicao
10. Pot life da mistura pode variar de 6 a 24 horas.
11. A cura feita temperatura ambiente ou atravs de um forneio a baixa
temperatura.
12. O revestimento apresenta excelente aderncia sobre uma variedade de
substratos:
Metais, plsticos, madeira, concreto.
75% EA AROMATIC TDI Adduct TOLUENE DIISOCYANATE DESMODUR L75
75% MPA/X ALIPHATIC HDI-Biuret
1,6 HEXNANODIOL
DIISOCYANATE DESMODUR N75
SUPPLY FORM CLASS TYPE ISOCYANATE COMMERCIAL NAME
Repintura Automotiva Repintura Automotiva 2 Componentes 2 Componentes Isocianato Alif Isocianato Alif tico tico
100,000 Total
30,87 MMA
2,45 HEMA
0,98 AA
9,8 ESTIRENO
4,9 BA
50,00 Xileno
% EM PESO COMPOSIO
W - Y Viscosidade
Mximo 15 ndice de Acidez
0,32 % OH sobre soluo resina
Maior DOI e melhor FLOW
Xileno Voltil
50 % Slidos
VALORES ESPECIFICAO
FORMULA FORMULA O DE O DE
RESINAS ACR RESINAS ACR LICAS LICAS
USANDO A PLANILHA DE C USANDO A PLANILHA DE C LCULO LCULO
POL POL MEROS DE CURA POR MEROS DE CURA POR
RADIA RADIA O ULTRAVIOLETA O ULTRAVIOLETA
DEFINIES DEFINIES
Entende-se por cura UV a converso instantnea de um lquido
reativo em um filme slido com uso de radiao UV
Materiais curveis por radiao: acrilatos (UV e EB) e metacrilatos
(melhor com EB).
Solventes reagem (acrilados)
Fotoiniciadores: 250 400 nm
POL POL MEROS DE CURA POR UV MEROS DE CURA POR UV
VANTAGENS DA CURA UV VANTAGENS DA CURA UV
Baixo Aquecimento
Opes variadas de formulaes para UV
Velocidade de cura
Tamanho compacto da linha de pintura
Qualidade de cura
126
MECANISMO DE CURA POR UV MECANISMO DE CURA POR UV
DESVANTAGENS DA CURA UV DESVANTAGENS DA CURA UV
Toxidez dos componentes da lmpada (Hg)
Exposio radiao
Manuseio das matrias-primas
(proteo especial para olhos
e pele - EPI`s)
PINTURA DE PAINIS PLANOS
TIPOS DE ACABAMENTOS UV TIPOS DE ACABAMENTOS UV
1. Epoxi acrilado
2. Uretano acrilado
3. Polister acrilado
4. Polister insaturado
EPXI ACRILADO AROMTICO DIFUNCIONAL
1. Alta reatividade
2. Brilho elevado
3. Alta viscosidade
4. Flexbilidade limitada
5. Amarelamento
1. Alta reatividade
2. Brilho elevado
3. Alta viscosidade
4. Flexbilidade limitada
5. Amarelamento
URETANO ACRILADO
1. Funcionalidade de 1 a 6.
2. Maior funcionalidade, maior reatividade
3. Menor funcionalidade, menor reatividade
Ligao
Uretano
A introduo da insaturao feita pela reao dos cidos acrlico
ou metacrlico com grupos hidroxila do polister saturado.
As resinas polisteres saturadas so produtos de reao de
dicidos e polilcoois, sendo a esterificao a reao bsica.
POLI POLI STER ACRILADO STER ACRILADO
PERFIL DO POL PERFIL DO POL MERO MERO
P
O
L
I
S
T
E
R

I
N
S
A
T
U
R
A
D
O
O maior uso dos polisteres insaturados curados por UV
Revestimento de madeira
Massas e acabamentos.
Propiciam revestimentos:
Duros
Resistentes a riscos e a solventes.
Deficientes em resistncia qumica.
Aspecto excelente.
FUNDAMENTOS DE UM REVESTIMENTO DE CURA POR UV:
1. Ocorrncia de reaes qumicas entre o polmero da tinta e o solvente da mesma
atravs da ao da energia radiante.
2. O polmero e o solvente reagem entre si atravs de insaturaes do tipo C = C.
3. A reao ocorre aps a aplicao da tinta e sob a ao de energia radiante.
4. O solvente fica, portanto, incorporado ao revestimento tornando-se um polmero
com estrutura tridimensional insolvel e termofixo.
5. Aproveitamento de 95% da tinta durante a cura por UV enquanto que na maioria
das tintas lquidas, seja de secagem ao ar ou estufa, o solvente perdido por
evaporao.
6. Sistema bastante similar a qualquer tinta lquida: veculo (resina), pigmentos,
cargas e solvente (no caso, monmero).
7. Necessidade de adicionar composio da tinta uma substncia sensvel a
radiao UV: o chamado fotoiniciador.
8. O fotoiniciador transformado em radicais livres atravs da ao da luz UV.
9. Estes radicais livres iniciam a polimerizao atravs das insaturaes do
solvente (monmero) e da resina por um mecanismo denominado adio das
duplas ligaes.
10. A luz ultravioleta deve penetrar no revestimento para transformar o
fotoiniciador em radicais livres.
11. Para que isto ocorra, h necessidade de duas condies:
1. A luz ultravioleta deve ter energia suficiente
2. O revestimento no deve ser opaco.
12. A velocidade de cura por UV depende
1. Da velocidade de gerao de radicais livres
2. Das caractersticas da fonte de radiao (lmpada UV)
3. Sistema de foto-iniciador escolhido.
13.A inibio pelo oxignio do ar pode ser diminuda atravs do uso de aminas
tercirias alifticas.
14.A cura de revestimentos espessos e/ou pigmentados bastante difcil.
O uso de lmpadas de alta intensidade, tambm denominadas de alta
presso
Em associao com uma mistura adequada de iniciadores
Podem minimizar o problema.
MECANISMO DE CURA = SUCESSO DE ETAPAS:
1. Formao de radicais livres atravs da decomposio do fotoiniciador
quando exposto a radiao UV (radiao com comprimento de onda entre
200 e 400 nanmetros).
2. Os radicais livres reagem com as duplas ligaes da resina e do solvente,
formando espcies propagadoras.
3. As espcies propagadoras do origem polimerizao e, como
conseqncia, cura atravs da formao de ligaes cruzadas.
MECANISMO DE CURA = SUCESSO DE ETAPAS: MECANISMO DE CURA = SUCESSO DE ETAPAS:
1. POLMEROS INSATURADOS.
2. Atravs das insaturaes que haver a reao com o solvente reativo (tambm
insaturado).
3. Forma mais comum de se introduzir insaturaes nos polmeros
1. Atravs de uma reao controlada com monmeros acrlicos
4. Polmero reativo -> risco de GELIFICAO
INIBIDORES - fundamental para se evitar GELIFICAO.
Os inibidores mais comuns so;
Hidroquinona
Metoxi-metil hidroquinona
P-Benzoquinona
Mono-t-butil hidroquinona
P-t-Butil catecol
CARACTERSTICAS FUNDAMENTAIS
5. Utiliza fonte artificial de radiao UV
6. A Indstria Moveleira a maior consumidora dessa
tecnologia, com cerca de 60% de consumo da produo de
produtos UV.
7. Utilizao em peas planas e painis
8. Indstria Grfica em segundo lugar com 25%.
140
CARACTERSTICAS FUNDAMENTAIS
141
PRINCIPAIS FOTO PRINCIPAIS FOTO- -INICIADORES INICIADORES
250 400 nm
Clivam diretamente
250 400 nm
Clivam diretamente
250 400 nm
Curva de absorbncia para Foto-iniciadores
250 400 nm
No clivam diretamente
Benzofenona na presena de uma amina (DMEA)
PRINCIPAIS DILUENTES DOS POL PRINCIPAIS DILUENTES DOS POL MEROS DE CURA POR UV MEROS DE CURA POR UV
147
O ESPECTRO ELETROMAGN O ESPECTRO ELETROMAGN TICO TICO
148
CURA POR UV CURA POR UV
149
150
151
Fonte de
Radiao
Lquido
Slido
ESCOLHA DO FOTOINICIADOR ESCOLHA DO FOTOINICIADOR
Teor de fotoiniciador em funo da espessura do filme
Substrato Substrato
Alta espessura com
muito fotoiniciador
Conciliar espessura elevada
com menos fotoiniciador
FATORES QUE INFLUENCIAM NA CURA POR UV FATORES QUE INFLUENCIAM NA CURA POR UV
Inibio de cura atravs da influncia da molcula de oxignio
Uso de benzofenona / amina para minimizar a atuao do O
2
Substrato
O
2
O
2
O
2
Relao 2:1 entre benzofenona e a amina.
Presena de pigmentos, cargas e aditivos opacos radiao UV
Pigmentos e Cargas
TiO
2
/ Carbon Black
Silica / Barita
Absorvedores de UV
Substrato
Potncia da Lmpada
Define o fluxo de radiao para o processo de cura
(w/cm ou w/polegada)
Lmpada mais usada: 80 w/cm.
Detalhes da lmpada
Arco de mercrio de mdia presso
Corpo em quartzo
Tamanhos:
35 mm de arco 1200 W at 2,3 m de arco 24000 W
Temperaturas 600C 900C
Faixas de UV geradas
Poder de Penetra Poder de Penetra o das faixas de UV o das faixas de UV
- -Sistema UV base Sistema UV base d d gua gua
Processo de cura em WB UV Processo de cura em WB UV
160
Ultravioleta e os 5 E Ultravioleta e os 5 E s s
EP
EP
XI
XI
-
-
ACRILADO
ACRILADO
1. Reao de resinas epxi com cido acrlico ou metacrlico.
2. Resinas epxi obtidas a partir do Bisfenol A DER331 (equivalente epxi = 182
192).
3. Reao entre o grupo glicidila da resina epxi e o grupo carboxlico do acido
acrlico ou metacrlico.
4. Reao entre os grupos hidroxila do epxi e carboxila do cido acrlico deve ser
evitada.
5. Uso de catalisadores que favorecem a reao atravs do grupo glicidila
1. Origem aninica (aminas tercirias)
2. Origem catinica (octoato de zircnio).
6. A quantidade de catalisador varia entre 1 e 2% do peso dos reagentes.
EP EP XI ACRILADO XI ACRILADO - - PERFIL DO POL PERFIL DO POL MERO MERO
1. Resina epxi Bisfenol A DER331 (equivalente epxi = 182 192): 1 mol.
2. Acido Acrlico: 0,88 moles.
3. Inibidor: 0,01 a 0,1% em peso (sobre formula).
4. Catalisador: 0,1 a 2% em peso (sobre reagentes).
5. Temperatura de reao: variando entre 90 e 130C.
EP EP XI ACRILADO XI ACRILADO
COMPONENTES T COMPONENTES T PICOS PARA OBTEN PICOS PARA OBTEN O DO POL O DO POL MERO MERO
Revestimentos que necessitem, principalmente, resistncia qumica.
Papel, madeira, plsticos, circuitos eletrnicos e tintas de impresso.
TMPA, HDODA e TRPGDA so os monmeros mais utilizados na diluio
destas resinas.
EP EP XI ACRILADO XI ACRILADO - - PRINCIPAIS USOS PRINCIPAIS USOS
EP EP XI ACRILADO XI ACRILADO
POLI
POLI
STER
STER
-
-
ACRILADO
ACRILADO
Exemplo de uma formulao de POLISTER SATURADO:
Anidrido Ftlico: 2,0 mols
cido Adpico: 3,0 mols
Neo Pentil Glicol: 0,8 mols
TMP: 4,2 mols
Catalisador: 0,08% - 0,1% em peso (dibutil dilaureato estanho)
O nmero de hidroxilas de 200
A ACRILAO feita da seguinte forma:
Polister: 1,0 equivalente grama em hidroxila.
cido acrlico: 1,25 equivalente grama em carboxila.
Catalisador: 0,5 a 1,0% em peso (reagentes).
Inibidor: 0,01 0,1% em peso (sobre formula).
COMPONENTES T COMPONENTES T PICOS PARA OBTEN PICOS PARA OBTEN O DO POL O DO POL MERO MERO
REA REA O DE POLIMERIZA O DE POLIMERIZA O DE UM POLI O DE UM POLI STER SATURADO STER SATURADO
O CH
3
HO CH
2
/ \ | |
O = C C = O + HOOC (CH
2
)
4
COOH + HO CH2 C CH
2
OH + HO C - CH
2
CH
3
| |
CH
3
HO CH
2
ANIDRIDO + CIDO + NPG + TMP
FTLICO ADPICO
O O CH
3
|| || |
.
O - C C
. .
O - CH
2
C CH2
. .
OOC(CH
2
)
4
CO
. .
CH
2
- C - CH2 O
.
+ 3 H
2
O
| |
CH
3
CH
2
|
CH
3
n
REA REA O DE ACRILA O DE ACRILA O DO O DO
1. Excesso de cido acrlico para facilitar a esterificao;
2. Excesso removido ao final do processo por vcuo.
3. Viscosidade do polister acrilado muito alta, usa-se at 20% de solvente.
4. Catalisador de esterificao - Octoato de Zircnio.
5. Inibidor de polimerizao por adio - Hidroquinona.
POLI POLI STER ACRILADO STER ACRILADO - - OBSERVA OBSERVA ES FINAIS ES FINAIS
6. TMPA, HDODA e TRPGDA so os monmeros de diluio destas resinas.
7. Polisteres acrilados so mais baratos que os epoxi-acrilados.
8. Indicados em revestimentos para madeira, plsticos e tintas de impresso.
9. HHPA (anidrido hexa cloro tetra hidro ftlico) ou THPA (anidrido tetra
cloro hidro ftlico) em substituio a anidrido ftlico = excelentes polmeros
para uso sobre Plsticos e Vidros.
10.Reatores vitrificados so recomendados para a fabricao destes polmeros
devido fora corrosiva destes anidridos.
POLI POLI STER ACRILADO STER ACRILADO - - OBSERVA OBSERVA ES FINAIS ES FINAIS
POLI POLI STER STER - - INSATURADO INSATURADO
1. Os polisteres insaturados SEM DILUIO ou DISSOLVIDOS em TMPA,
HDODA, TRPGDA ou qualquer outro monmero insaturado com reatividade
adequada , representam uma das resinas mais importantes de cura por
radiao dada a sua versatilidade e baixo custo.
2. A escolha adequada dos di-cidos e dos polilcoois fundamental para se
atingir as propriedades requeridas.
POLI POLI STER INSATURADO STER INSATURADO
3. Composio tpica de um polister insaturado:
1,2 propilenoglicol: 2,1 mols
Anidrido Ftlico: 1,0 mol
Anidrido Maleico: 1,0 mol
Inibidor: 0,01 0,1% em peso sobre formula.
Catalisador: Liocat 119 0,05 0,1% em peso sobre reagentes
4. O processo de preparao similar ao usado para obter polisteres saturados.
Atingindo o ndice de acidez e viscosidade requeridos, a resina resfriada a
90C 100C e diluda com monmero a uma concentrao de slidos variando
entre 65 e 75%.
REA REA O DE POLIMERIZA O DE POLIMERIZA O DE UM POLI O DE UM POLI STER INSATURADO: STER INSATURADO:
PRINCIPAIS COMPONENTES DE UM POLI PRINCIPAIS COMPONENTES DE UM POLI STER INSATURADO: STER INSATURADO:
ESQUEMA DE PRODU ESQUEMA DE PRODU O DE UM POLI O DE UM POLI STER INSATURADO PARA UV: STER INSATURADO PARA UV:
OBSERVA OBSERVA ES FINAIS ES FINAIS
1. Insaturao do polister = anidrido maleico ou cido fumrico.
2. Propileno glicol e dietileno glicol so os principais polilcoois.
3. Uma grande variedade de propriedades pode ser obtida alterando:
A relao do anidrido maleico e outros cidos.
A relao dos polilcoois difuncionais com os trifuncionais.
Glicis com distanciamento dos grupos OH afetam a flexibilidade do
polmero.
Idem para os dicidos no que se refere ao distanciamento dos grupos
carboxila.
4. Cura superficial inibida pelo oxignio do ar
Adio de parafina ao polister (0,2% a 2%).
No processo de aplicao, flash-off e cura, esta parafina vem para a
superfcie formando uma barreira protetora contra o oxignio do ar.
Aps a cura, a parafina retirada por lixamento.
5. O maior uso dos polisteres insaturados curados por UV
Revestimento de madeira
Massas e acabamentos.
6. Propiciam revestimentos:
Duros
Resistentes a riscos e a solventes.
Deficientes em resistncia qumica.
Aspecto excelente.
OBSERVA OBSERVA ES FINAIS ES FINAIS
AM AM NICAS NICAS
RESINAS AM RESINAS AM NICAS NICAS
UR UR IA IA- -FORMOLDE FORMOLDE DO (URE DO (URE CA; UR CA; UR IA) IA)
MELAMINA MELAMINA- -FORMOLDE FORMOLDE DO (MELAM DO (MELAM NICA, MELAMINA) NICA, MELAMINA)
ESTRUTURA DAS MAT ESTRUTURA DAS MAT RIAS PRIMAS MAIS USADAS RIAS PRIMAS MAIS USADAS
H H
2
N H
3
C
\ \ \
H
3
COH C = O C = O CH CH
2
OH CH
3
CH
2
CH
2
CH
2
OH
/ / /
H H
2
N H
3
C
Metanol Formol Uria Isobutanol Butanol
AM AM NICAS NICAS
Melamina
PREPARA PREPARA O O PRINCIPAIS ETAPAS DO PROCESSO PRINCIPAIS ETAPAS DO PROCESSO
O processo de obteno envolve 3 etapas:
1. Hidroxi metilao:
Compostos capazes de polimerizar.
Favorecida com o aumento do pH (trabalhar com pH bsico).
R NH2 + H2CO -> R NH CH2OH = GRUPO METILOL
2. Condensao:
Polimerizao
Favorecida com o aumento da temperatura.
3. Eterificao:
Alquilao
De parte dos grupos metilol com lcoois adequados.
Favorecida pelo pH cido e baixa temperatura.
Eterificao do grupo metilol feita para:
Melhorar solubilidade em solventes usuais
Melhorar compatibilidade c/outras resinas na cura.
Butanol e isobutanol lcoois mais comuns usados na eterificao
A
M
A
M

N
I
C
A
S
N
I
C
A
S
MELAMINA FORMOL MELAMINA FORMOL
350,000 ISOBUTANOL A SER RECUPERADO
760,000 GUA
MAX 1 INDICE ACIDEZ
60% NO VOLTEIS
Z2 VISCOSIDADE
2500,00 TOTAL
1300,00 (52%) RENDIMENTO
0,790 TOLUOLTRIETILAMINA G
90,250 TOLUOL F
MAX 1 COR
E
E
D
C
B
A
ITEM
278,000 MELAMINA
1,000 TRIETILAMINA
0,100 ACIDO FOSFRICO
967,775 ISOBUTANOL
0,100 ISOBUTANOL
1162,250 FORMOL
PESO MATRIA PRIMA
85C DEPOIS, DESTILAR GUA AT TOLERNCIA 1:3 EM
GUARRAS.
85C ADICIONAR (F) E REFLUXAR POR 1 HORA.
85C ACERTAR PH 5,5 5,7 COM (E)
85C QUANDO OK, DESTILAR LCOOL AT VISCOSIDADE
FINAL. ADICIONAR (G).
85C ADICIONAR (D) O MAIS RPIDO POSSVEL
MANTENDO TEMPERATURA 85C.
TA ADICIONAR (C) RAPIDAMENTE. AQUECER PARA 85C
TA CARREGAR (A). ACERTAR PH PARA 7,7 COM(B).
PREPARA PREPARA O DE UMA RESINA UR O DE UMA RESINA UR IA FORMOLDEIDO IA FORMOLDEIDO - - UR UR ICA ICA
+ CH
2
O C = O
NH
2
NH
2
Uria
HNCH
2
OH
C = O
NH
2
+
Monometilouria
CH
2
O
Formoldedo
bsico
HNCH
2
OH
C = O
HNCH
2
OH
Dimetilouria
solvel em
H
2
O
Hidroxi metilao
ou formao de
GRUPOS METILOIS
PREPARA PREPARA O DE UMA RESINA UR O DE UMA RESINA UR ICA ICA
ETERIFICAO OU
ALQUILAO
DO GRUPO
METILOL
R O R (ter)
Radical orgnico monovalente
formado pela remoo
de um tomo de hidrognio
de um hidrocarboneto
saturado
O
||
C C - O C C
Acetato etila
PREPARA PREPARA O DE UMA RESINA MELAMINA O DE UMA RESINA MELAMINA
N
N N
NH
2
NH
2
H
2
N
Melamina
+ 6H
2
C=O
Formaldedo
H
+
ou OH
-
METILOLAO
N
N N
N
N
N
CH
2
OH
CH
2
OH
CH
2
OH HOCH
2
HOCH
2
HOCH
2
Hexametilolmelamina
+ R - OH
H
+
ALQUILAO
N
N N
N
N
N
CH
2
OR
CH
2
OH
CH
2
OR HOCH
2
HOCH
2
HOCH
2
Melamina parcialmente
Alquilada ( R )
+ H
2
O
gua
R = Butanol, Isobutanol, Metanol, etc...
PRINCIPAIS CARACTER PRINCIPAIS CARACTER STICAS DAS RESINAS URE STICAS DAS RESINAS URE CAS E MELAM CAS E MELAM NICAS NICAS
REA REA O GERAL DE CROSSLINK DE RESINAS AM O GERAL DE CROSSLINK DE RESINAS AM NICAS NICAS
CH
2
O R
N
Resina
Amnica
+
Resina
Hidroxilada
CH
OH
H+
> 130C
Politer
N
CH
2
Resina
Amnica
CH
O
Resina
Hidroxilada
Ligao
ter
+
lcool
ROH
Evapora
CURA DE RESINAS AM CURA DE RESINAS AM NICAS NICAS
CURA DE RESINAS AM CURA DE RESINAS AM NICAS NICAS
1. Reao da resina amnica com grupos hidroxila, carboxila. glicidila, entre outros.
2. Estrutura tridimensional de alta performance.
3. Cura ao redor de 150C durante 20 a 40 minutos.
4. Classificadas em dois grupos:
Cura rpida
Cura lenta
5. Cura rpida -> auto-condensao.
Grupo metilol reagindo entre si numa velocidade mais rpida que o grupo
metilol hidroxila do polmero base.
6. Cura lenta
Reao predominante com o polmero base.
Melhores propriedades do revestimento
Melhor performance em intemperismo.
R
E
S
I
N
A
S

A
C
R
R
E
S
I
N
A
S

A
C
R

L
I
C
A
S

E
M

E
M
U
L
S
O
L
I
C
A
S

E
M

E
M
U
L
S
O
Definio de Emulso
Duas fases lquidas, imiscveis entre si, finamente
distribudas uma dentro da outra atravs de um emulsificante.
EMULSO EMULSO
Resistncias
Luz
Calor
UV
gua
Resistncias
Luz
Calor
UV
gua
Brilho
Lavabilidade
Aderncia
Brilho
Lavabilidade
Aderncia
Velocidade
Secagem
& Odor
Velocidade
Secagem
& Odor
Formao
da
Pelcula
Formao
da
Pelcula
Veculo
AGREGAO
dos
componentes
tintas
Veculo
AGREGAO
dos
componentes
tintas
Funes
de uma
emulso
Funes
de uma
emulso
EMULSO EMULSO
COMPONENTES
DE UMA
EMULSO
COMPONENTES
DE UMA
EMULSO
MONMEROS
MONMEROS
GUA
(MEIO DISPERSANTE)
GUA
(MEIO DISPERSANTE)
EMULSIFICANTES
(EMULSIONANTE,
SURFACTANTE OU
TENSOATIVO.
EMULSIFICANTES
(EMULSIONANTE,
SURFACTANTE OU
TENSOATIVO.
INICIADORES
REDUTORES E/OU
CATALISADORES
INICIADORES
REDUTORES E/OU
CATALISADORES
EMULSO EMULSO
EMULSO AQUOSA
SLIDOS: 35 a 65%
VISCOSIDADE: 100 A 200000 cps
POLIMERIZAO DA EMULSO
MONMEROS MONMEROS
todo composto de pequena massa molecular
cujas molculas podem unir-se umas as outras,
formando dmeros, trmeros, polmeros.
Exemplos:
Acetato de Vinila
Estireno
cido Acrlico
2-Etil Exil Acrilato
Acrilato de Butila
Acrilato de Etila
Veova (Versati Acid Vinyl Ester)
Metil Metacrilato
Temperatura de Transio Vtrea Tg
a temperatura onde o polmero passa do estado vtreo ou
quebradio para o estado fsico similar ao da borracha.
Exemplos de polmeros e suas respectivas temperaturas de transio vtrea:
Poliestireno: 100 C;
Poliacrilato de etila: -22C;
Poliacetato de vinila: 30C.
Temperatura acima da Tg: estado elstico ou amorfo;
Temperatura abaixo da Tg: estado cristalino.
MONMEROS MONMEROS
CLASSIFICAO
DOS
MONNEROS
DUROS
E
MOLES
ESTABILIZANTES CROSSLINKING
Dependem
da Tg
MONMEROS MONMEROS
Monmeros Duros : Tg > T ambiente = Duro
Monmeros Moles : Tg < T ambiente = Mole
Monmeros Estabilizantes : Tem a maior compatibilidade com a gua,
criando estabilidade na emulso;
Monmero de Crosslinking : Reagem ligando cadeias de polmeros, criando
uma emulso mais dura.
Cada Monmero transfere suas propriedades para o polmero.
N-Metilol cido Acrlico
cido Metacrlico
cido Maleico
Anidrido Maleico
Etila
Butila
Veova
2EHA
Estireno
Vinila
Metil-Metacrilato
Acrilonitrila
Monmeros
Crosslinking
Monmeros
Estabilizantes
Monmeros Moles Monmeros Duros
MONMEROS MONMEROS
ESTIRENO E VT EM SOLVENTES
NO POLARES
METACRILATOS E ACRILAMIDA RESISTNCIA A SOLVENTES
CIDO ACRLICO E METACRLICO ESTIRENO E MMA
IMPERMEABILIDADE E
RESISTNCIA A GUA
ALFA METIL ESTIRENO ACRILATOS E METACRILATOS
ESTABILIDADE A LUZ,
INTEMPERISMO,
DURABILIDADE E RETENO
COR
ALCOOL VINLICO, CIDO
ACRLICO E METACRILICO
ESTIRENO
RESISTNCIAS A
DETERGENTES E SALT SRAY
ACRILATOS E ACETATOS
VINILICOS
ESTIRENO E ACRILONITRILA
RESISTNCIA A CIDOS E
ALCALIS
ETILENO, MALEATO BUTILICO,
BUTADIENO
MMA, ESTIRENO, CIDOS
ACRLICOS E METACRLICOS
DUREZA
BUTADIENO, CLORADO VINLICO
E CLORADO VINILIDENO
ESTIRENO BRILHO
MMA, ESTIRENO E VT ACRILATOS E METACRILATOS FLEXIBILIDADE
ACRILATOS E METACRILATOS METACRILAMIDA E ACRILONITRILA
RESISTNCIA
MANCHAMENTO
MONMEROS QUE PREJUDICAM MONMEROS QUE CONTRIBUEM PROPRIEADES DESEJADAS
MONMEROS MONMEROS

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Minicursos CRQ-IV - 2010

polmeros na formulao de tintas

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