光電科技概論 Introduction to Optics and Photonics

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序
光電科技對於近代基礎科學的發展有很大的影響，這可由近四十年來每
十年就至少有一項光電相關的研究獲諾貝爾獎看出；光電科技的應用也大大
的改變近代人類的生活方式，這可從光電產業的蓬勃發展得到印證。因此先
進國家早已編列龐大經費從事光電科技的研究，而我國將光電科技列為重點
發展項目也已有25年。
這25年來我國光電研究所、光電系陸續成立，光電中不少領域也已有豐
碩的成果，包括人才的培育、論文的發表、國際會議的參與、國內及國際
會議的舉辦等等；而我國光電產品在 2005 年產值已達 1 兆 3, 318 億，2006
年產值上升到 1 兆 5, 691 億，2007 年產值甚至突破 2 兆元，可見光電已是
我國的重要產業，但有關光電書籍的出版卻相對的不多，而能夠兼顧廣度
與深度，又能適合剛從高中畢業，沒有太多數學背景的大一新生閱讀與學
習的書籍則更少。有鑒於光電科技對於基礎科學的發展及產業的競爭力具
有重大的影響，而書是入門與進階的重要文獻，因此我們編列這本光電科
技概論，希望此書能彌補這個空缺。
由於光電科技涉及範圍甚廣，非一個人能於短時間內可以寫成，因此
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本系同仁依個人專長分工寫出各章節；原則上盡量少用數學而設法將個中
要義用口語與圖片深入淺出陳述。本書分為基礎篇、進階篇及應用篇。基
礎篇主要在介紹光電科技的基礎知識，包括幾何光學、波動光學、干涉光
學、傅氏光學、光電學、光電材料及輻射與檢測，都是入門光電科技必備
的知識；進階篇為基礎篇之延伸，包括全像、雷射、非線性光學、光學檢
測、薄膜光學、色彩學、光電半導體、積體光學及光子晶體；應用篇則是
舉一些當今光電科技常應用的例子，包括微奈米光學、微光機電系統、顯
示科技、光通訊、固態照明、光儲存及太陽能光電。
本書之編寫受限於時間與人力，雖然集合多位老師的經驗但仍然無法涵
蓋所有光電課題；而且光電科技的發展日新月異，所以本書之目的僅在提
供大一新生及初次入門光電科技領域者參考使用。即使如此，亦必有遺漏
與不周全之處，尚期各位先進不吝指正。
本書之完成有賴多位同學之幫忙，尤其要感謝助教廖詩芳不辭辛苦整理
圖片與文字校正。
李正中於中央大學
光電科學與工程學系
2008年，夏季。
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二版序
光電科技的快速發展對我們的生活已產生重大的影響，而且將越來越顯
著，這可由 2009 年的諾貝爾物理學獎頒給高錕 (1966 年開發光纖通訊科技)
以及史密斯 ( George E. Smith) 和鮑伊 (Willard S. Boyle) (1969 年發明半導體
成像器，即電荷耦合器 (CCD) 圖像傳感器) 看出。此乃光電科技嶄露頭角並
趨於成熟的有力證明，除了代表光電研究已經得到相當的重視，並透露出目
前的科學趨勢不再只著眼於基礎研究，甚至應用科學亦是研究重點。
我國在光電科技的教育已投入大量的師資與經費，至目前為止已有將近
30 個光電相關科系、研究所分布在全國大專院校，加上光電研究機構的數
量更是可觀。我國光電產品由 2007 年產值突破 2 兆元，在金融海嘯的影響
下，2009 年產值只稍稍衰退，為 1 兆 7, 247 億元。據 PIDA (財團法人光電科
技工業協進會) 預估，在 2010 年將恢復成長，而根據國科會的統計，光電
產業之科學園區營業額在 2009 年與積體電路產業位居國內產業營業額之前
兩名，可見過去國家投入光電相關之基礎教育，已有相當研發成果，並且成
為我國之重要產業。
光電科技概論在此版本中，除了修正第一版內容的錯誤，更新增了「液
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晶光學」於第六章，介紹液晶分子的光學特性以及液晶顯示器。以期提供一
本更完整的光電科技入門參考書。
本書之編寫團隊非常感謝各位讀者的支持，為使本書更臻於完美，書中
若有漏失之處，也希望各位不吝賜教。
李正中 & 楊宗勳

國立中央大學光電科學與工程學系
2010年2月24日
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作者群
總編輯李正中、楊宗勳
作者第一章幾何光學孫文信
第二章波動光學游漢輝
第三章干涉光學李正中、陳昇暉
第四章傅氏光學游漢輝
第五章光電學欒丕綱
第六章液晶光學徐桂珠
第七章光電材料張正陽
第八章輻射與檢測歐陽盟
第九章全像術鄭益祥
第十章雷射鍾德元
第十一章非線性光學陳彥宏
第十二章光學檢測梁肇文
第十三章薄膜光學李正中
第十四章色彩學楊宗勳
第十五章光電半導體郭政煌
第十六章積體光學戴朝義
第十七章光子晶體陳啟昌
第十八章微奈米光學張正陽
第十九章微光機電系統伍茂仁
第二十章顯示科技歐陽盟
第二十一章光通訊陳啟昌
第二十二章固態照明孫慶成
第二十三章光儲存孫慶成
第二十四章太陽能光電陳昇暉
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目錄
序 iii
二版序 v
作者群 vii
I 基礎篇 1
第1章幾何光學 3
1.1 引言 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 3
1.2 幾何光學基本原理 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 4
1.3 光學像差理論 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 10
1.4 應用 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 24
練習題 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 32
第2章波動光學 35
2.1 光線，光波──好像是件矛盾的事情 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 35
2.2 波動 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 40
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2.3 光的波動 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 41
2.4 楊氏雙縫干涉 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 43
2.5 偏振狀態 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 44
2.6 單色波和同調長度 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 45
2.7 一些干涉條紋的亮暗問題 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 46
2.8 單色波 ——— 無限長弦波 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 47
2.9 結語及回顧本章內容 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 48
練習題 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 50
第3章干涉光學 51
3.1 歷史回顧 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 51
3.2 干涉的原理 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 53
3.3 干涉的應用 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 70
練習題 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 76
第4章傅氏光學 79
4.1 引言 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 79
4.2 傅氏光學所針對面(應付)和處理的問題 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 79
4.3 複數振幅 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 82
練習題 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 92
第5章光電學 93
5.1 基本概念與術語 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 94
5.2 光在均向性介質中的傳播 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 101
5.3 光在非均向性介質中的傳播 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 107
5.4 應用 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 114
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練習題 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 117
第6章液晶光學 119
6.1 液晶分子的基本特性 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 119
6.2 液晶分子的光學特性 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 123
6.3 液晶顯示器簡介 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 125
6.4 矩陣光學在液晶的應用 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 128
練習題 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 131
第7章光電材料 133
7.1 引言 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 133
7.2 晶體與非晶體材料 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 133
7.3 折射率與均向性、非均向性材料 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 133
7.4 玻璃 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 135
7.5 非線性光學材料 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 136
7.6 液晶材料 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 138
7.7 半導體材料 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 140
7.8 矽半導體材料 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 141
7.9 矽太陽能電池 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 141
7.10 矽微光機電材料 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 142
7.11 III-V族發光二極體 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 142
練習題 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 144
第8章輻射與檢測 145
8.1 引言 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 145
8.2 黑體輻射 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 145
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8.3 輻射學 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 152
8.4 光度學 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 160
8.5 檢測原理 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 161
練習題 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 168
II 進階篇 169
第9章全像術 171
9.1 簡介 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 171
9.2 干涉與繞射 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 175
9.3 全像術 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 179
第 10 章雷射 191
10.1 引言 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 191
10.2 原理 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 195
10.3 雷射結構 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 200
10.4 雷射特性與輸出 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 205
10.5 雷射種類 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 214
10.6 雷射應用 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 216
練習題 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 222
第 11 章非線性光學 223
11.1 引言 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 224
11.2 原理 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 226
11.3 應用與發展 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 241
練習題 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 244
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第 12 章光學檢測 245
12.1 歷史回顧 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 246
12.2 光學檢測原理 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 248
12.3 各種不同的光學元件檢測法 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 253
12.4 未來發展 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 259
練習題 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 261
第 13 章薄膜光學 263
13.1 引言 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 263
13.2 自然與人造光學薄膜 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 264
13.3 原理 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 267
13.4 光學薄膜的種類 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 275
13.5 應用與發展 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 284
練習題 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 289
第 14 章色彩學 291
14.1 色彩的意義 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 291
14.2 描述顏色的方法 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 297
14.3 結語 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 301
第 15 章光電半導體 303
15.1 引言 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 303
15.2 N 型半導體與P 型半導體 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 305
15.3 如何製作半導體 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 308
15.4 半導體光電元件 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 310
第 16 章積體光學 323
xiii
或來電(02)2705-5066
16.1 發展背景 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 323
16.2 光在波導內的傳輸特性 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 325
16.3 積體光學的應用 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 331
16.4 未來發展 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 336
練習題 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 338
第 17 章光子晶體 339
17.1 什麼是光子晶體 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 339
17.2 光子晶體理論簡介 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 341
17.3 光子晶體在光電方面的應用 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 347
17.4 未來發展 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 351
練習題 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 354
III 應用篇 355
第 18 章微奈米光學 357
18.1 前言 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 357
18.2 自由空間及光波導 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 358
18.3 折射式光學元件與繞射式光學元件 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 358
18.4 製作方式 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 359
18.5 繞射式光柵 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 359
18.6 折射式微光學透鏡 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 360
18.7 繞射式光學透鏡 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 361
18.8 複合功能元件 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 362
18.9 Iterative Method . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 363
18.10光儲存 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 364
xiv
或來電(02)2705-5066
練習題 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 366
第 19 章微光機電系統 367
19.1 微機電基本技術 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 368
19.2 技術發展歷程 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 368
19.3 微光機電元件應用 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 371
第 20 章顯示科技 375
20.1 引言 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 375
20.2 直視型顯示技術 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 376
20.3 投影顯示技術 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 383
20.4 未來顯示技術 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 391
練習題 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 394
第 21 章光通訊 395
21.1 自由空間光通訊 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 395
21.2 光纖通訊 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 397
21.3 未來發展 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 405
練習題 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 407
第 22 章固態照明 409
22.1 LED 於未來照明的優勢. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 410
22.2 LED 發展歷程 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 413
22.3 LED 工作原理 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 414
22.4 LED 發光效率 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 414
22.5 LED 封裝技術 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 416
22.6 白光 LED 技術. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 418
xv
或來電(02)2705-5066
22.7 LED 照明應用 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 419
22.8 未來願景 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 420
第 23 章光儲存 421
23.1 光碟儲存 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 421
23.2 全像儲存 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 441
第 24 章太陽能光電 451
24.1 歷史回顧 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 451
24.2 太陽光電的原理 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 452
24.3 太陽能電池的分類 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 459
練習題 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 468
參考文獻 469
索引 481
xvi
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第 I 篇
基礎篇
或來電(02)2705-5066
或來電(02)2705-5066
第 1 章
幾何光學
本章將介紹幾何光學基本原理與其應用，在第二節將敘述鏡組六個主要的點位
置與物理意義，並推導出鏡組有
有效焦距(effective focal length, EFL) 與後
後焦距(back
focal length, BFL) ，及探討入
入瞳 (entrance pupil) 及出
出瞳(exit pupil) 位置與大小。第
1.3 節討論像差理論，將探討鏡片所存在七種像差之特性。在第 1.4 節將計算望遠鏡
之物鏡和目鏡焦距與其相關位置。
1.1 引言
早在中國夏商朝代利用銅鏡反
反射定律(reflective theorem) 來梳妝，而西元前五
折射定律(refraction law) 遲
百年希臘人發現月光是來自太陽光的反射，相形之下，折
了約二千年由 Snell 於 1621 年從實驗發現。1657 年，Fermat 提出有名最小時間原
理，即光線在通過兩點之間的空間時，取道最短光程，奠定幾何光學的基礎[1] 。
像散 (astig-
對於像差理論，則直到 1700 年牛頓才知透鏡對斜射光束所產生之像
matism)，可是到 1804 年，William Hyde Wollaston 才是第一位對對消除像散作研究
者[2] ，他是以實驗方法來研究不同形式透鏡之成像情形。 1827 年，第一位以數學
畸變(distortion) 之正
推導研究像散者為 George B. Airy。同年，他也發現消除畸正切條
件(tangent condition) ，他並提出，當透鏡被消除斜射像散後，其所產生焦曲面是
以凹向透鏡，其曲率半徑等於折射率與透鏡焦距之乘積。此一彎曲像面即為 Petzval
曲面。
3
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光電科技概論
(a) (b)
% 1.1 (a) D 5 (b) `£5ÐrL
光線帶色的現象是牛頓在公元 1666 年利用稜鏡發現的。牛頓又證明了不同顏

色的光線，以不同的速度通過玻璃，以致於折向不同的方向，這種現象即為現代所
色散像差 (chromatic aberration)[3] 。
稱色
1.2 幾何光學基本原理
幾何光學有幾個定律，首先是光在均勻介質以一直線前進，且其光程為可逆
的。當兩光線交錯時各自獨立無干涉現象。光線在通過兩點之間的空間時，必須
取道最短光程。光線在介面反射時入射角等於反射角。如真空中的光速為 c 的光
折射
線進入某一透明介質時，光速為 υ，υ 會比 c 小，造成光速變慢的因素為介質折
率(refractive index) n，即 υ = c/n，因此光線穿透不同介質時會產生折射，依據史
史
耐爾定律(Snell’s law)
n1 sin θ1 = n2 sin θ2 (1.1)
其中 n1 、 n2 分別為兩不同介質折射率， θ1 、 θ2 分別在兩不同介質之介面上入
射角與折射角如圖1.1(a)所示。利用以上定律可以真實描繪光的前進軌跡。
4
或來電(02)2705-5066
第一章幾何光學
(a) (b)
% 1.2 (a) Ï×xFGNF (b) ÏÞxF¡NF
1.2.1 近軸光線追跡
當光線以小角度入射 (sin θ ≈ tan θ ≈ θ) 一鏡組，光線會非常靠近光軸，利用

光線折射定理可表示為 n1 θ1 = n2 θ2 ，以簡化光線追跡複雜性。
符號定義
光線在鏡組高度定義為向上為正，向下為負；光線追跡距離往右追跡為正，往
左追跡為負；鏡組焦距收歛鏡片為正，發散鏡片為負；鏡面曲率半徑符號定義為曲
率中心位於曲面右方為正，曲率中心位於曲面左方為負，如圖 1.1(b)所示。光線至
光軸角度，從光線至光軸順時針方向為正；從光線至光軸逆時針方向為負。光線在
介質傳遞時，其介質折射率往右追跡為正，往左追跡為負[4] 。
六個重點
鏡組設計有六個重要的點不得不知，分別為第
第一主點 (first principal point) 與第
第
一焦點 (first focal point) 、第
第二主點(second principal point) 與第
第二焦點(second focal
point) 、第
第一節點 (first nodal point) 與第
第二節點(second nodal point) 。
如圖 1.2(a)所示，一束平行光線從右(像方)射入一鏡組後聚焦在光軸上一

點(F )，稱為第一焦點，該平行光束與聚焦光束交會於第一主平面，第一主平面
與光軸的交點為第一主點(P )，由第一主點至第一焦點距離 (P F ) 為鏡組為第
第一焦
距(first focal length) 或物
物焦距(object focal length) f ，鏡組第一面頂點 (V ) 至第一焦
5
或來電(02)2705-5066
光電科技概論
% 1.3 Ï×;FÏÞ;F
點距離 (V F ) 為前
前焦距(front focal length, F F L) 。同理在圖 1.2(b)平行光線從左(物
方)進入一鏡組聚焦於光軸上第二焦點 (F 0 )，由第二主點 (P 0 ) 至後焦點距離 (P 0 F 0 )
為第二焦距 f 0 也稱有效焦距，鏡組最後一面頂點 (V 0 ) 至後焦點距離 (V 0 F 0 ) 為後焦
距。
節點定義如圖 1.3所示，當物方光線進入一鏡組在光軸上會有一共軛點使物方
光線入射角 u 等於像方光線出入射角 u0 ，此共軛點稱為節點 (N 和N 0 點)，其物方光
線在光軸上之點稱為第一節點，像方光線在光軸上之點稱為第二節點。
如果物方折射率與像方折射率相同則 f 0 = −f ，而節點位置與主點位置重疊
(N = P ，N 0 = P 0 )[3] 。
近軸光線追跡公式
近軸光線追跡 (paraxial ray tracing)[5] 之折

折光過程(refractive process) 如圖 1.4(a)所
曲
示， nj−1 與 nj 分別表示為在介面兩邊折射率； Rj 為介面曲率半徑； C 為介面曲
率中心(curvature center) ； hj 為光線在曲面之高度； Ij−1 與 Ij 分別為光線在介面
上入射角和折射角； uj−1 與 uj 分別表示為光線入射前與入射後之收歛角； Cj 為
介面曲率為曲率半徑倒數。設 Rj > 0， uj−1 < 0， Ij−1 > 0， uj < 0， Ij > 0 而
Cj = 1/Rj ，由史耐爾定律 nj−1 Ij−1 = nj Ij ，故
nj−1 (hj Cj + uj−1 ) = nj (hj Cj + uj ) (1.2)

nj uj = nj−1 uj−1 − hj Cj (nj − nj−1 ) (1.3)
6
或來電(02)2705-5066
(a) (b)
% 1.4 (a) a5Ä(b) aFLÄ
nj uj = nj−1 uj−1 + hj (−φj ) (1.4)
鏡面折光率
φj = Cj (nj − nj−1 ) (1.5)
圖 1.4(b) 近軸光線追跡傳遞過程(transfer process) ， hj 與 hj+1 分別光線在兩

介面之高度； dj 為兩介面間距離； uj 為在兩介面間之光線收歛角。則
hj+1 = hj + dj uj (1.6)
有效焦距 (第
第二焦距 )與
與後焦距
如圖 1.5一束平行入射光線其收歛角 u0 = 0，光線在鏡組第一面高度為 h1 ， h1
為任意值， hi 為光線在鏡組最後一面高度； ui 為光線在像方收歛角。則鏡組後焦
距與有效焦距分別定義如下
7
或來電(02)2705-5066
光電科技概論
% 1.5 b[Nû¡Nû
hi
後焦距 = − (1.7)
ui
h1
有效焦距 = − (1.8)
ui
有效焦距與後焦距不隨 h1 大小而改變。
1.2.2 入瞳和出瞳之位置與大小
光學系統有一光圈(aperture stop) 存在，而光學系統擋光最多地方即光圈位

入瞳 (entrance pupil) 為從物方所看到光圈影像，而出瞳(exit pupil) 為從像方
置，入
所看到光圈影像。在成像系統有兩條代表性光線，一為主光線(chief ray) ，另一為
邊緣光線(marginal ray) 。主光線是由物的邊緣發出，未進入光學系統前，主光線
或其延長線會進入入瞳中心；而主光線進入光學系統會交於光圈中心點；主光線
或其延長線出光學系統後會交於出瞳中心。同理邊緣光線是由物中心出發，未進入
光學系統前，邊緣光線或其延長線交會入瞳邊緣；當邊緣光線進入光學系統會交於
光圈邊緣；邊緣光線或其延長線出光學系統後會交於出瞳邊緣。入瞳和出瞳位置與
大小運算方式如圖 1.6 利用主光線近軸光線追跡公式
8
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% 1.6 áõH
nj+1 ūj+1 = nj ūj − h̄j Cj (nj+1 − nj ) (1.9)

h̄j+1 = h̄j + dj+1 ūj+1 (1.10)
設在光圈上主光線收歛角 ūS = −0.01 (可設任意值)，主光線在光圈高度

h̄S = 0。主光線由光圈位置逆向追跡至第一面可得 h̄1 、 ū0 ，入瞳位置為距第
一介面距離， l = −h̄1 /ū0 ，而入瞳口徑 Den 可由鏡組焦距與進光量有關之光
光圈
數(f-number) ，或稱為相對孔徑(relative aperture)得知，即 Den = EF L/(F/#)。同
理主光線由光圈位置追跡至最後一面可得 h̄i 、 ūi ，出瞳位置為距最後一面距離，
l0 = −h̄i /ūi ，而出瞳口徑 Dex 可由邊緣光線近軸追跡求知
nj+1 uj+1 = nj uj − hj Cj (nj+1 − nj ) (1.11)

hj+1 = hj + dj+1 uj+1 (1.12)
由物中心描光至入瞳邊緣可得邊緣光線在鏡組第一面高度 h1 與角度 u0 ，再追

跡至鏡組最後一面高度 hi 與角度 ui ，而出瞳高度為
h0 = hi + l0 × ui (1.13)
9
或來電(02)2705-5066
光電科技概論
故出瞳口徑 Dex = |2h0 |。
1.3 光學像差理論
光學像差可分成兩大類；(1)因光線在透明介質隨不同波長而偏折角度不同
所產生之色散像差，包括縱向色差(longitudinal chromatic aberration) 與橫向
色差(lateral chromatic aberration) 。 (2)因透鏡形式所產生之像差，包括球面像
差(spherical aberration) ，彗
彗星像差(coma) ，像
像散 (astigmatism) ，視
視場彎曲(field
curvature) 與畸變(distortion) [2] 。
色散像差
光線在透鏡內行走，其折射率會隨光的不同波長而改變，造成透鏡焦距隨光的
波長改變而有縱向色差，且透鏡成像放大率隨光的波長改變而產生橫向色差。
1.3.1 光學玻璃折射率與波長關係
由於白光由不同頻率的波長 (400nm ∼ 700nm) 所組成如圖 1.7(a) 所示[6] ，不同

波長的光源其在鏡片內的光速會有所改變，其關係為
c
ν= (1.14)
n
其中 ν 代表速度、 c 為光速、 n 代表折射率。一般在可見光範圍，波長越短者

折射率越大，如圖 1.7(b) 所示[3] 。
波長和折射率關係，依據 Schott 公司所公佈的公式
n2 = A0 + A1 λ2 + A2 λ−2 + A3 λ−4 + A4 λ−6 + A5 λ−8 (1.15)
折射率正確度在 400nm ∼ 700nm 間達 ±3 × 10−6 ；而在 365nm ∼ 400nm 和

700nm ∼ 1014nm 兩個範圍也有 ±5 × 10−6 精度。
10
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(a) (b)
% 1.7 (a) ®P (b) .+Ý÷`a
1.1 ýãÙËv
波長(nm) 符號化學元素顏色
365.01 i 汞紫外
404.66 h 汞紫
435.83 g 汞紫藍
479.99 F0 鎘藍
486.10 F 氫藍綠
546.07 e 汞綠
587.56 d 氦黃綠
656.27 C 氫紅
1014 t 汞紅外
波長和折射率關係除 Schott 所公佈之公式外，也可使用其他公式表示，其精準

度也有不錯效果[7] 。
1.3.2 標準光源
一般光譜燈源常用來作標準光源，如表1.1所列，其中以藍光 F (λ = 486.13nm)、
黃綠光 d (λ = 587.56nm) 與紅光 C (λ = 656.27nm) 等三種波長最常使用。
11
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光電科技概論
% 1.8 Schott 2¥.+Ëv

1.3.3 光學玻璃種類
德國 Schott 公司將所生產玻璃列表如圖 1.8，橫座標為色散 Vd (Abbe number

Vd = (nd − 1)/(nF − nC ))，其中nF 為藍光折射率、nC 為紅光折射率，縱座標為折
射率 nd ，共有一百多種玻璃[8] 。
1.3.4 薄稜鏡色散像差
圖 1.9(a)所示為一白光束射至一稜鏡 (prism)。光線被稜鏡分散成為各單色光，
僅考慮三種波長 (wavelength)，紅光 (C)、黃綠光 (d)、藍光 (F )。則每一波長之偏
向均可以下列薄稜鏡公式求之。
PC = (nC − 1)a (1.16)

Pd = (nd − 1)a (1.17)
PF = (nF − 1)a (1.18)
12
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其中，a 為稜鏡之頂角，nC ，nd ，nF 分別為 C、 d、 F 三種波長在稜鏡內之

折射率，稜鏡之色散差為 PF − PC ，即
PF − PC = (nF − 1) a − (nC − 1) a
= (nF − nC ) a
nF − nC
= Pd
nd − 1
Pd
= (1.19)
Vd
由光學觀點而言，物質 Vd 值愈大，色散差愈小。
1.3.5 薄透鏡之縱向色差
圖 1.9(b)所示為一白光束射於薄透鏡，被透鏡分散為各單色光。圖中所示僅
紅光 (C) 及藍光 (F )。以 FF − FC 表示縱向色差。透鏡對黃綠色光之折光率為
Fd = (nd − 1)(C1 − C2 )，其中 C1 ， C2 分別為透鏡第一面曲率與第二面曲率，同理
對藍、紅色光之折光率分別為 FF = (nF − 1)(C1 − C2 )、 FC = (nC − 1)(C1 − C2 )。
故縱向色差[9] 為
FF − FC = (nF − nC ) (C1 − C2 )
nF − nC
= Fd
nd − 1
Fd
= (1.20)
Vd
1.3.6 薄透鏡之橫向色差
一束離軸白光光線由於波長不同，造成像面位置不同，成像高度相異，故其放
大率也不同，所以在同一像面上之紅光像高與藍光像高之差值即為橫向色差。一般
橫向色差會受光圈位置偏移而改變如圖 1.10(a)所示， P0 為物點， PC 、 Pd 、 PF
13
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光電科技概論
(a) (b)
% 1.9 (a) 2`÷ - (b) Á'-
分別表示紅光 (C)、黃綠光 (d) 與藍光 (F ) 之成像點，而 chC 、 chd 、 chF 分別為紅
光 (C)、黃綠光 (d) 與藍光 (F ) 之主光線，則在黃綠光 (d) 成像面上紅光像高與藍
光像高之差值為橫向色差。如果光圈在透鏡上，則橫向色差為零，如圖 1.10(b)所
示[10] 。
單色光像差
在近軸區以外，單片透鏡所成之像與近軸之理想像相差甚大。即使在近軸區
內，單片透鏡亦無法使白色之各成份波長同時聚焦於一點。在以下之討論中，假定
所使用之光為黃綠色 (d 線)，其波長為 587.6nm。
在數學上可證明: 角度 A 之正弦可以下列級數表之。
A3 A5 A7
sin A = A − + − + ··· (1.21)
3! 5! 7!
當 A 角甚小時，有 sin A = A 之關係，此為近軸光線追跡理論基礎。如果取
A3
sin A = A − ， (1.22)
3!
則可適用於較大的區域，在此一假定下所得結果，又稱為三階理論。證明單色光像
差之最簡單方式為經由光線追跡。即是將光束追跡通過透鏡之各個折射面，在每一
個面均應用史耐爾定律 n sin i = n0 sin i0 。此法雖然相當冗長，但可顯示出出射光之
14
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(a) 光圈不在透鏡上
(b) 光圈在透鏡上
% 1.10 ßD`U'-(a) U'- ë(b) U'- ë
真正性質，與近軸光線性質比較，即可求得縱向或橫向之像差。下面將討論五種不
同性質之像差[9],[11] 。
球面像差
軸上所發出光源，在鏡片不同高度造成成像點的偏移，在近軸聚焦位置上，其
不同高度的光線的擴散量即為球面像差如圖 1.11(a)所示。而鏡片形狀對球面像差的
影響很大如圖 1.11(b)，選擇在物方曲率為正可得較好效果。
1.3.7 消除球面像差之物像位置
一般鏡面物像關係如圖 1.12所示為
n0 n n0 − n
= + (1.23)
l0 l R
有三個位置可使球面像差為零
15
或來電(02)2705-5066
光電科技概論
(a)
(b)
% 1.11 (a) ¦« -(b) `nÏE¦« -ÝÅ(
1. 當 l = 0，則 l0 = 0，即物像位置與曲面頂點重合。
2. 當 l = R，則 l0 = R，即物像位置重合於曲率中心。
R(n0 +n) R(n0 +n)

3. 當 l = n ，則 l0 = n0 ，此物像位置即為無球面像差點(aplanatic
point) 。
1.3.8 aplanatic點
點之物像位置
如圖 1.12所示，當 l = R (n0 + n) /n， l0 = R (n0 + n) /n0 ，則
sin (−u0 ) sin i0 n0 sin i0 sin i

= 0 = = (1.24)
R l −R nR R
可得 i = −u0 ，同理
16
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% 1.12 aplanatic F
sin (−u) sin i n sin i sin i0

= = 0 = (1.25)
R l−R nR R
即 i0 = −u，故 n sin i = n0 sin i0 可變換為 n sin u0 = n0 sin u，則
sin u0 n0
= = constant (1.26)
sin u n
所以 aplanatic 點滿足正弦條件(sine condition) ，在後面介紹彗星像差時，會求

得彗星像差為零，必須滿足正弦條件，因此 aplanatic 點是一同時無球面像差與無彗
星像差之共軛位置。
1.3.9 彗星像差
如圖 1.13(a)所示，一離軸光束在鏡片不同高度成像位置不同即放大率不同，所
造成的像差為彗星像差，參考圖 1.13(b)由離軸主光線所造成的點像做彗星狀擴散的
像差。
通常光線在入瞳上分佈位置之半徑越大，則在像面上之彗星像差越嚴重，如圖
1.14所示。
17
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(a) (b)
% 1.13 (a) ûÏ -Ýã¼(b) ûÏ -
1.3.10 光學正弦定理
參考圖 1.15，由邊緣光線 (BAB 0 ) 與輔助光線 (P CP 0 ) 知
y0 l0 − R R sin i0 / sin u0 n sin u

= = = 0 (1.27)
y l−R R sin i/ sin u n sin u0
ny sin u = n0 y 0 sin u0 (1.28)
第1.28式即為光學正弦定理(optical sine theorem) ，當 u 與 u0 角度很小時，則
nyu = n0 y 0 u0 (1.29)
第1.29式為拉式不變量(Lagrange invariant) 。
1.3.11 正弦條件
當離軸光線的真實放大率與近軸光線的放大率相同，則彗星像差為零，即
18
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% 1.14 CWûÏ -F5µ
% 1.15 .Ñ<§
y0 n sin u nu
MT = = 0 = 0 0 (1.30)
y n sin u0 nu
由1.30式很容易得出光學正弦條件(sine condition) ，如
sin u u
0
= 0 = 常數 (1.31)
sin u u
當所有光線滿足正弦條件，則其光學系統已消除彗星像差。
1.3.12 像散
自軸外物點之細小光束於經透鏡折射後形成互相正交之兩條焦線，謂之散光或
19
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(a)
(b)
% 1.16 E ÷
像散，如果像點聚焦在切向焦平面(tangential focal plane) 上則徑向影像變模糊，

同理像點聚焦在徑向焦平面(sagittal focal plane) 則切向影像變模糊如圖 1.16。
1.3.13 視場彎曲
由於物高增長其物距比在軸上物距增長，造成像點位置不同，形成一曲面如圖
1.17(a)。使用有像面彎曲像差的透鏡，如對焦定在視野中央部份時，周邊部分會發
生模糊現象。如對焦在周邊部分則中央部份會發生模糊現象如圖 1.17(b)所示。
20
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索引
–A– amplitude transmission coefficient, 268

analog, 424
analyzer, 115
absolute amplitude, 94
anchoring force, 121
absorption band, 203
angular frequency, 94
absorption spectrum, 206
angular multiplexing, 447
accelerator, 216
Angular velocity, 54
acceptor, 455
anisotropic, 119
acousto-optical effect, 93, 114, 225
anisotropic media, 93
acousto-optics modulator, AOM, 205
Antinode, 61
active alignment, 396
aperture stop, 8
active ion, 201
aplanatic point, 16
active layer, 216, 401
APLN, 242
active material, 201
AR coatings, 285
Active Matrix, 375
Argon ion, 193
adiabatic following, 126
Armand Fizeau, 52
Air Mass (AM), 454
ASE, 196
Albert Abraham Michelson, 52
astigmatism, 3, 10, 430
Alexandre-Edmond Becquerel, 451
ASTM, 454
all-optical communication, 243
Augustin Jean Fresnel, 52
amorphous silicon, 341, 461
axial modes, 204
Ampere’s law, 106
amplification, 196 –B–
amplified spontaneous emission, 196
amplitude modulator, 232 back focal length, 3
amplitude reflection coefficient, 268 bandgap, 455
482
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索引
barrel distortion, 22 Chapin, D.M., 451

beam expansion, 206 chief ray, 8
beam splitter, 54 chirality, 114
Beat, 59 Cholesteric, 120
beat length, 60 Christian Huygens, 51
Bell, 395 Chroma, 299
bend, 120 chromatic aberration, 4
BFL, 3 CIE, 300
biaxial crystal, 107 CIGS, 464
birefringence, 109, 119, 240 circular polarized, 44
birefringence phase matching CIS, 464
type I, 240 CIS/CIGS, 461
type II, 240 cladding, 397
blackbody radiation, 145, 231 classical physics, 104
blue shift, 266 cleaved facet, 401
bound electrons, 452 cluster system, 463
boundary condition, 204 coherence, 51, 53
Bragg grating, 242 Coherence of light, 47
Bragg selectivity, 445 Coherent, 174
bremsstrahlung, 202 coherent length, 46, 68, 206, 269
Brewster angle, 204 coherent Raman spectroscopy, 225
Brillouin scattering, 225 Coherent Source, 66
COIL, 216
–C– collapse, 116
collective behavior, 377
calcite, 110 Collinear holographic system, 447
carrier, 395, 452, 455 Color, 291
Cathode Ray Tube, CRT, 375 color breakup, 386
cavity, 401 color difference, 301
cavity dumping, 205 Color Matching function, 297
cavity length, 206 color wheel, 389
cavity modes, 204 Columb barrier, 218
CCFL, 313 coma, 10
CD-R, 432 compensator plate, 74
CdTe, 461 complete bandgap, 342
483
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光電科技概論
complex amplitude, 96 detector, 54

complex double integral, 91 dielectric
conduction band, 455 anisotropy, 122
conductivity, 464 constant, 103, 105
cone cell, 294 permittivity, 103
confine, 397 media, 226
confocal laser scanning microscopy, 218 tensor, 107
constitutive equations, 226 difference frequency generation; DFG, 224
constructive interference, 51, 270 Diffraction, 171, 176
continuous wave-motion, 53 diffraction limit, 206, 423
contrast, 47 diffusion length, 452
Copper Indium Diselenide, 464 Digital Light Processing , DLP, 376
Copper Indium Gallium Diselenide, 464 diode lasers, 216
core, 397 dipole array, 237
couple output, 200 direct energy weapons, 218
coupled-wave equations, 239 direct view, 375
coupling efficiency, 402 directional coupler, 232, 404
coupling length, 404 dispersion, 101, 206, 400
covalent bond, 455 dispersion elements, 205
cross product, 106 dispersionless, 227
crystal optics, 93 dispersive, 236
curvature center, 6 displacement field, 105
Cut-off, 331 distortion, 3, 10
Czochralski method, 460 distributed Bragg reflector，DBR, 402
divergence angle, 206
–D– divergence theorem, 106
division of amplitude, 54
DC field, 231 division of wavefront, 54
de-excitation, 378 donor, 455
degeneracy factor, 236 doping, 242
degree of coherence, 66 dose, 350
degrees of freedom, 96 double refraction, 93, 109
depleted region, 402 down-conversion, 231
depletion region, 456 drift, 403
destructive interference, 51, 270 DVD, 435
484
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索引
DWDM, 241, 325 Envelope, 60

Dye-Sensitized Solar Cell, DSSC, 466 epitaxy, 216
equal frequency surface, 102
–E– equal-phase surface, 95
etalon, 205
E wave, 125 Ether, 52
e-beam lithography, 347 Excimer laser, 202
edge emitting, 212 excited state, 195
edge-emitting laser, 401 exit pupil, 3, 8
Edward Williams Morley, 52 external current, 452
effective focal length, EFL, 3 External Quantum Efficiency, 414
elastic wave, 96 extraordinary ray, 111
electric dipole, 104, 226 extraordinary refractive index, 124
electric dipole moment, 226 eye safe, 242
electric displacement, 105 eyepiece, 24
electric field, 93
electric susceptibility, 104 –F–
electrically pumped, 197
electro-optical effect, 93, 114 f-number, 9
Electro-optics, 93 Fabry-Perot interferometer, 204
Electro-optics modulator, EOM, 205 facet, 401
electromagnetic plane wave, 96 Faraday rotation, 114
electromagnetic theory, 93 Faraday’s law, 106
electromagnetic wave, 52 fast axis, 115
ellipse, 97 FDTD, 345
ellipsoid of revolution, 111 feedback, 396
elliptical polarized, 44 femto-second, 194
elliptically polarized light, 98 Ferro Electroc Liquid Crystal, FLC, 380
ellipticity, 97 F F L, 6
emission spectrum, 206 fiber-to-the-home (FTTH), 395
emissive display, 378 field curvature, 10
Emissive Microdisplays, 376 Field Emission Array, 383
energy density, 103 Field Emission Display, FED, 375
energy flow density, 103 Field-Sequential method, 391
entrance pupil, 3, 8 first focal length, 5
485
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光電科技概論
first focal point, 5 general relativity, 96

first nodal point, 5 giant pulse, 192
first principal point, 5 gradient, 102
Fizeau interferometer, 52 grating, 176, 205
flash lamp, 202 gravitational wave, 96
fluorescence, 195 Green laser pointer, 200
four-level system, 197 ground state, 235
Fourier group velocity, 102
Analysis, 91 Guest-Host, GH, 380
Optics, 79
series, 85 –H–
transform, 91, 227
Frederiks transition, 123 Haidinger fringes, 75
Free electron laser, FEL, 194, 216 handedness, 98
Fraunhofer, Joseph von, 52 Heinrich Hertz, 52
free space, 395 Heisenberg’s uncertainty principle, 45
free space communication, 220 Hermitian matrix, 114
frequency, 53, 94 heterostructure, 194
frequency comb, 194 hexagonal lattice, 344
frequency mixing, 224 High frequency term, 60
Fringes of equal inclination, 75 high power flash lamp treatment, 464
Fringes of equal thickness, 75 high-order mode, 399
Fritts, Charles, 451 Hinge, 389
front focal length, 6 hole, 455
Fuller, C.S., 451 Holography, 171, 441
fundamental mode, 399 holography, 194, 206, 220
Holovideo, 186
–G–
homeotropic, 121
homogeneous, 121
GaAs, 461 Horizontal Bridgeman, HB, 308
gain medium, 199 Horizontal Gradient Freeze, HGF, 308
gain saturation, 200 host material, 201
Gauss’ law, 96 Hue, 299
Gaussian beam, 208
Gaussian distribution, 234 –I–
486
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索引
incidence plane, 99 Lagrange invariant, 18

inclination angle, 97 Laser, 191
incoherent Source, 66 dye, 202
instantaneous amplitude, 94 Helium-Cadmium, He-Cd, 202
integrated optics, 242 Helium-Neon, He-Ne, 202
intensity of light, 100 ruby, 224
interaction cross section, 197 laser accelerator, 218
interference, 51, 171, 263 laser acupuncture, 219
interference fringe, 52, 53 Laser Anneal, 387
interference of double slit, 52 laser barcode, 221
interference term, 59 laser beam, 206
interferometer, 52, 218 laser cavity, 200
Internal Quantum Efficiency, 414 laser cooling and trapping, 218
inverse matrix, 109 laser cosmetic surgery, 219
inverse Raman spectroscopy, 225 laser cutting, 219
ionization, 377 laser dentistry, 219
iris diaphragm, 204 laser display, 220
irradiance, 267 laser engraving and marking, 220
ISO, 454 laser fusion, 218
isotropic, 57, 119 laser gyroscope, 221
isotropic media, 93, 101 laser heat treatment, 220
ITO, 126 laser illuminator and indicator, 219
ITU, 404 laser microscopy, 218
laser pointer, 221
–J–
laser polarization spectroscopy, 225
laser printing, 221
Jones matrix method, 128 laser range finder, 219
Jones vectors, 98 laser resonator, 200
junction, p − n, 452 laser scalpel, 219
–K– laser spectroscopy, 206
laser trapping and cooling, 194
laser welding, 219
Kerr effect, 235
laser-guided smart weapons, 218
Kerr medium, 225
LASIK, Laser in situ Keratomileusis, 219
–L– lateral chromatic aberration, 10
487
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LC, 375 lyotropic liquid crystal, 119

LCD, 125
HTPS-, 376 –M–
LCoS, 376
LEC, 308 magnetic dipole, 104
LED, 304, 310, 311 magnetic field, 93
left-handed polarized light, 98 magnetic flux density, 105
lens, 54 magnetic induction, 105
LGN, 295 magnetic susceptibility, 105
LIDAR, 221 magnetization, 104
life time, 195, 452, 464 Malus law, 100
Light Emitting Diode, 310 marginal ray, 8
Light Extraction Efficiency, 414 Maser, 191, 192
Lightness, 299 material dispersion, 400
LiNbO3 , 404 Maxwell, James Clerk, 52, 93
linear cavity, 204 Maxwell’s equations, 49, 52, 96, 226, 237
linear electro-optics effect, 231 MBE, 309
linear optics, 95 measurement, 116
linear polarized, 45 medium, 54, 197
linear polarized light, 98 MEMS, 367
linear resonator, 204 mica, 110
Linear superposition, 58 Michael Faraday, 377
linear superposition, 94 Michelson interferometer, 51
linewidth, 207 Michelson–Morley experiment, 52
Liquid Crystal, 119 microcrystalline silicon, 461
liquid crystal display, 125 microdisplay, 376
Liquid Crystal on Silicon, 376 mirror, 54
Liquid Crystal, 375 MOCVD, 309, 310
Liquid Encapsulated Czochralski, 308 mode, 330
Liquid Phase Epitaxy, 309 modulate, 114
local field, 202 modulation, 397
longitudinal chromatic aberration, 10 modulation frequency, 60
longitudinal coherence, 46 modulation propagation constant, 60
longitudinal modes, 204 Modulation term, 60
LPE, 309 modulators, 205
488
或來電(02)2705-5066
索引
MOEMS, 368 objective, 24

molecular ordering, 119 ohmic contact, 457
monochromatic light, 44 omni-directional reflector, 344
Monochromatic point source, 67 OPA, 230, 231
MQW, 401 opal, 341
multi-chamber in-line system, 463 open-circuit voltage, 457
multi-mode fiber, 399 OPG, 231
multiple quantum well, 401 OPG/OPO, 224, 231
Multiplex Holography, 184 OPSL, 216
optic axis, 107, 110
–N– optic Chiasm, 295
optic nerve, 295
NA, 398, 423, 435, 439 optical activity, 93, 113
nanoimprint, 351 optical bistability, 225
NCAP, 380 optical computer, 225
near-field optics, 346 optical fiber, 395
negative refraction, 349 optical fiber network, 220
negative uniaxial crystal, 111 optical filter, 115
Nematic, 120 optical gain, 398
Newton, Isaac, 51, 246 optical image processing, 89
Newton’s ring, 52 optical loss, 398
Node, 61 Optical MEMS, 368
nonlinear electro-optics effect, 235 optical parametric amplification, 230
nonlinear elements, 205 optical parametric generation, 231
nonlinear optics, 95, 194, 213, 223 optical parametric oscillation, 231
nonparametric process, 235 optical path, 128
normal vector, 103 optical path difference, OPD, 68
normalized frequency, 343 optical phase conjugation, 225
normalized Jones vector, 98 optical resonator, 200
numerical aperture, 398, 423, 435, 439 optical sine theorem, 18
optical storage, 220
–O– optical thin film, 263
optical tweezer, 218
O wave, 125 optically pump, 192
object focal length, 5 optically pumped, 197
489
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光電科技概論
optically-pumped semiconductor lasers, 216 phonon, 225

ordinary ray, 111 photochemistry, 218
ordinary refractive index, 124 photocurrent, 456
Orthogonal, 173 photodynamic therapy, 219
orthogonal phase multiplexing, 447 photolithography, 220
output coupler, 204 photon, 101, 225
Overhead projectors, 376 photon flux density, 199
Overlay Color Formation, 384 photonic bandgap, 339
photonic crystals, 339
–P– Photopolymers, 442
photopolymers, 444
Parallax, 172 photoreceptor, 294
parametric fluorescence, 231 photorefraction, 225
parametric process, 235 photovoltage, 457
paraxial ray tracing, 6 Photovoltaic, 451
Partial Coherence, 66 photovoltaic effect, 451
partially polarized, 100 Photovoltaic efficiency, 459
particle theorem of light, 52 Physical Vapor Deposition, 463
Passive Matrix, 375 pincushion distortion, 22
PDD/PDT, 241 pixel, 389
Pearson, G.L., 452 plane or linear polarized, 44
period, 56 plane polarized, 45
permeability, 103 plane wave, 57, 95
permittivity, 105, 226 planewave expansion method, 344
Petzval surface, 21 Plasma Display Panel, PDP, 375
phase, 53, 81, 94 plasma treatment, 464
phase angle, 94 Pockels effect, 231
phase difference, 53 point defect, 347
phase factor, 96 point light source, 57
phase lock, 213 polarizability, 104
phase matching, 237 polarization, 53, 93, 104
phase modulator, 232 x−, 98
phase retardation plate, 115 y−, 98
phase velocity, 102, 400 density, 226
phasor, 228 state, 44, 98, 99, 442
490
或來電(02)2705-5066
索引
polarize, 104 quasi-phase matching, 225

polarizer, 100, 115, 172, 204, 285 quasineutral gas, 377
polarizing beam splitter, 427 qubit, 116
population, 196
–R–
population inversion, 196, 225
positive uniaxial crystal, 111
radiative recombination, 378
potential barrier, 452
Rainbow Holography, 182
Poynting vector, 103
Raman amplifier, 225
PPLN, 242
Raman gain spectroscopy, 225
pretilt angle, 122
Raman scattering, 225
principal axes, 108
random phase multiplexing, 447
prism, 205
Rayleigh Scattering, 454
projection, 375
recombination, 457
propagation constant, 56
reflection, 100
propagation loss, 398
reflection coefficients, 99
pulse, 400
Reflection Spectrum, 294
pulse laser annealing, 464
Reflective Microdisplays, 376
pump, 196
reflective theorem, 3
–Q– refraction, 51, 101
refraction law, 3
refractive index, 4, 68, 101
Q-switch, 192, 205, 228
refractive process, 6
QPM, 225, 240
relative dielectric constant, 105
quantum bit, 116
relative permeability, 105
quantum computer, 116
relaxation, 378
quantum cryptography, 116
Responsivity, 403
quantum efficiency, 403
retina, 294, 295
quantum information, 114, 115
right-handed polarized light, 98
quantum mechanical description, 103
ring laser gyroscope, 60
quantum parallel computing, 116
RLG, 60
quantum state, 115
rod cell, 294
quarter wave plate, 427
Roll to Roll, 461
quartz, 224
rubbing, 121
Quasi-monochromatic spatially incoherence
extended source, 70 –S–
491
或來電(02)2705-5066
光電科技概論
sagittal focal plane, 20 Snell’s law, 4, 101

saturable absorber, 213 solar cell, 451
saturable absorption, 225 organic, 466
saturation current, 457 polymer, 466
scalar, 96 Solar constant, 453
scalar wave, 96 Solar Simulator, 454
scaling law, 343 Spacer, 383
scattering, 100 Spacing of fringes, 62, 64
second focal point, 5 Spatial coherence, 67
second nodal point, 5 spatial coherent length, 70
second principal point, 5 Spatial Color Formation, 384
second-harmonic generation wave, 224 spatial frequency, 56
selenium, 451 Spatial light modulator, 442
self-focusing, 224, 234 spatial soliton, 225
self-phase modulation, 225, 234 Special Light Modulator, 444
semi-major axis, 110 spectral linewidth, 203
semi-minor axis, 110 spectroscopy, 194, 218
semiconductor laser, 193 spectrum, 206
sense of rotation, 97 sphere, 102
sensitivity, 403 spherical aberration, 10
sensitizer ion, 202 Spherical wave, 57
sensitizer material, 201 spin, 115
SHG wave, 224 splay, 120
shifting multiplexing, 447 spontaneous emission, 195, 339
short-circuit current, Isc , 457 spot size, 206
Simple Harmonic Vibration, 54 square lattice, 344
sine condition, 17, 19 SRAM, 389
single-mode fiber, 399 stable resonator, 203
sinusoidal wave, 47, 94 standard light sources, 293
SLM, 447 Standing wave, 61
slow axis, 115 stereogram, 171
small signal gain, 199 stimulated absorption, 195
SMD, 311 stimulated emission, 192, 195, 401
SMD LED, 311 stimulated Raman, 225
Smectic, 120 stimulated/induced amplification, 230
492
或來電(02)2705-5066
索引
Stokes’ theorem, 106 transfer process, 7

substrate, 216 transition, 195
sum frequency generation; SFG, 224 transmission axis, 100
Super Twisted Nematic, 126 Transmissive Microdisplays, 376
Super Twisted Nematic, ST N , 375 Transparent Conductive Oxide, 463
supercontinuum generation, 348 transparent conductive oxide, 465
superposition principle, 94 transverse wave, 52, 96
surface profile, 75 twist, 120
susceptibility, 226 Twisted Nematic, 126
SVEA, 239 Twisted Nematic, TN, 375
symmetrical stack, 278 two- or multi-photon absorption, 225
synchrotron radiation, 216 Two-photon excitation microscopy, 218
system on a chip; SOC, 243
–U–
–T–
undulator, 216
tangent condition, 3, 23 uniaxial, 123
tangential focal plane, 20 uniaxial crystal, 103, 107
telescope, 24 unitary evolution, 116
Temporal coherence, 67 unploarized, 100
temporal coherence, 46 unstable resonator, 203
tensor, 236 up-conversion, 230
tensor wave, 96
terahertz; THz, 241 –V–
TFT, 125
thermal deposition, 217 Vacuum Fluorescent Display, VFD, 375
thermotropic liquid crystal, 119 vacuum noise, 231
thin film optics, 263 valence band, 455
thin film solar cell, 461 valence electron, 455
Thin Film Transistor, 125 Van der Waals force, 120
Thin Film Transistor, T F T , 376 VCSEL, 401
third-harmonic generation; THG, 224 vector wave, 96
threshold, 206 Vertical Bridgeman；VB, 308
Time Sharing Color Formation, 384 Vertical Gradient Freeze；VGF, 308
transfer matrix, 343 Visibility, 67
493
或來電(02)2705-5066
光電科技概論
visual cortex, 295 –二劃–
–W–
乙太, 52
二極體雷射, 212, 216
Wave equation, 56
人眼安全, 242
wave function, 196
入射面, 99
wave number, 56, 94
入瞳, 3, 8
wave optics, 263
wave packet, 102 – 三劃 –
wave plate, 115
wave theorem of light, 51
三色刺激值, 300
wave vector, 95
三倍頻, 224
wave vector surface, 102
下頻轉換, 231
wave velocity, 94
上頻轉換, 230
Wave-front Reconstruction, 441
凡得瓦力, 120
wave-vector mismatch, 240
么正演化, 116
waveguide dispersion, 400
子波, 54
wavelength, 56, 94
小訊號增益, 199
wavelength conversion, 224
干涉, 51, 171, 263
wavelength multiplexing, 447
干涉作用, 267
wavelet, 54
干涉條紋, 52
waveplate, 128
干涉項, 59
WDM, 396
干涉圖形, 53
wiggler, 216
干涉儀, 52, 218
Willoughby Smith, 451
不穩定共振腔, 203
work function, 454
中段 Cell, 128
–Y–
– 四劃 –
Yoke, 389
介電物質, 226
Young’s double slit, 43
介電非均勻向, 122
Young’s interference, 44, 49, 51
介電張量, 107
–Z– 介電常數, 103, 105
介電率, 226
Zone Plate, 177 介質, 54, 197
494
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索引
內部量子效率, 414 – 五劃 –
六角晶格, 344
分子束磊晶, 309 可飽和吸收, 225
分子秩序, 119 可錄光碟, 432
分光鏡, 54 古典物理, 104
分散式布拉格反射鏡, 402 大氣質量, 454
切向焦平面, 20 大腦視皮層, 295
化學反應雷射, 214 右旋圓偏振光, 98
化學氧碘雷射, 216 史耐爾定律, 4
化學雷射, 216 史密斯, 451
厄米特矩陣, 114 四方晶格, 344
四能階系統, 197
反拉曼光譜, 225
外部量子效率, 414
反射, 100
外部電流, 452
反射式投影顯示器, 376
外積, 106
反射定律, 3
巨大脈衝, 192
反射係數, 99, 268
左右視差, 172
反射率光譜, 294
左旋圓偏振光, 98
反射鏡, 54
布魯斯特角, 204, 215
反矩陣, 109
布里若林散射, 225
反應率, 403
布拉格光柵, 242
反應截面, 197
布拉格選擇性, 445
太陽光電, 451
平面光波, 79, 84
太陽光模擬器, 454
平面波, 57, 80, 84, 86–88, 95
太陽能電池, 451 平面波展開法, 344
太陽常數, 453 平面電磁波, 96
尺寸的延展性, 343 本質方程式, 226
手徵性, 114 未激發, 378
支撐器, 383 正切條件, 3, 23
方解石, 110 正交的, 173
水平步氏法, 308 正交相位多工, 447
水平配向, 121 正弦波, 94
水平溫度梯度冷卻法, 308 正弦條件, 17, 19
牛頓, 51, 246 正型液晶, 124
牛頓環, 52 正單光軸材料, 124
495
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光電科技概論
正單軸晶體, 111 光的雙穩, 225

正電子, 40 光空間調制器, 442
生命週期, 452, 464 光柵, 176, 205
目鏡, 24 光梳, 194
石英, 224 光耗損, 398
立體圖, 171 光動力診斷與治療, 241
主光線, 8 光動力療法, 219
主動矩陣式, 375 光參量放大, 230, 231
主軸, 108 光參量振盪, 231
出瞳, 3, 8 光參量產生, 231
加(減)速輻射, 216 光參量螢光, 231
加速器, 216 光參數過程, 235
功函數, 454 光圈, 8, 204
包絡線, 60 光圈數, 9
包覆層, 397 光強, 100
半長軸, 110 光場, 80–84, 86, 87
半短軸, 110 光程差, 68
半導體異質結構, 194 光萃取效率, 414, 415
半導體雷射, 193, 214, 215 光軸, 107, 110, 125
半導體製程技術, 324 光微粒說, 52
光電流, 456
– 六劃 – 光電效應, 451
光電腦, 225
光, 267 光電學, 93
光子, 101, 225 光電壓, 457
光子能隙, 339 光電轉換效率, 459
光子通量密度, 199, 200 光聚合物, 442
光子晶體, 339 光增益, 398
光化學, 218 光線, 49
光學系統光耦合輸出, 200
4f , 87, 88 光學, 89, 91
光折變, 225 光學正弦定理, 18
光束, 206 光學共振腔, 200
光波, 81 光學厚度, 263, 269
光波動說, 51 光學相位共軛, 225
496
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索引
光學參量產生及振盪, 224 自由空間, 395

光學圖形處理, 89, 91 自由空間通訊, 220
光學蝕刻, 220 自由度, 96
光學儲存, 220 自由電子雷射, 194, 214, 216
光學幫浦半導體雷射, 216 自相位調制, 224
光學薄膜, 263 自相位調變, 234
光學濾波器, 115 自動對準, 396
光學鑷子, 218 自旋, 115
光幫浦, 192, 197, 202, 215 自發光顯示器, 378
光點大小, 206, 207 自發放射, 339
光譜, 206 自發輻射, 195
光譜線寬度, 203, 206 自發輻射放大, 196
光譜學, 194, 218 自聚焦, 224, 234
光纖, 395 色度座標系統
光纖到府, 395 CIE 1931, x-y, 300
光纖核心, 397 CIE 1976, u0 -v 0 , 301
光纖網路, 220 色相, 299
全方向反射鏡, 344 色差, 301
全光通訊, 243 色彩, 291
全像放映機, 186 色散, 101, 206, 236, 400
全像術, 171, 194, 206, 220, 441 色散元件, 205
多波長分工, 396 色散像差, 4
多重量子井, 401 色輪, 389
多腔體梅瓣式鍍膜機, 463 色斷, 386
多腔體連續鍍膜機, 463 共振腔, 401
多模光纖, 399 共振腔模, 204
存活時間, 195 共焦雷射掃描顯微術, 218
安培定律, 106 共價鍵, 455
弛緩, 378 再結合, 457
曲率中心, 6 同心迴光板, 177
有限時域差分法, 345 同步輻射, 216
有效焦距, 3 同軸架構, 447
有機金屬化學氣相磊晶, 309 同調性, 47
有機金屬化學氣相磊晶法, 310 同調拉曼光譜, 225
有機高分子太陽能電池, 466 同調的, 174
497
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光電科技概論
同調長度, 46, 206, 207, 220 貝爾, 395

各方同向性, 119
各方異向性, 119 – 八劃 –
各向同性, 57
向量, 44 受激吸收, 195
向量波, 96 受激或誘發放大, 230
向量場的模型, 332 受激拉曼, 225
受激態, 195
– 七劃 – 受激輻射, 195
受體, 455
位移多工, 447 居量, 196
佛朗何斐, 52 居量反轉, 196, 200, 225
吸收光譜, 206 帕茲伐曲面, 21
吸收光譜帶, 203 弦波, 47, 48
均向性介質, 93, 101 拉式不變量, 18
完整光子能隙, 342 拉曼光放大器, 225
快軸, 115 拉曼散射, 225
抗反射膜, 284, 285 拉曼增益光譜, 225
扭曲向列型, 375 拍長, 60
扭轉鉸鏈, 389 拍頻, 59
折光過程, 6 放射光譜, 206
折射, 51, 101 明度, 299
折射定律, 3 明晰度, 67
折射率, 4, 68, 101 和頻, 224
投影片式, 376 固態雷射, 214, 215
投影型, 375 固態薄膜型, 380
束縛電子, 452 奈米壓印, 351
材料色散, 400 波, 49, 266, 267
克爾介質, 225 波片，相位延遲片, 115
克爾效應, 235 波卡司效應, 231
系統晶片, 243 波包, 102
角度多功, 447 波向量, 95
角速度, 54 波向量不匹配, 240
角頻率, 94 波向量曲面, 102
貝克勒爾, 451 波函數, 196
498
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索引
波長, 56, 94 表色系統

波長多工, 325, 447 DIN 系統, 300
波長轉換, 224 Munsell 系統, 299
波板, 427 NCS 系統, 300
波前分光, 54 OSA 系統, 300
波前重建, 441 Ostwald 系統, 300
波動, 35, 37–40, 49 表面輪廓, 75
波動方程式, 43, 56 近場光學, 346
波動光學, 47, 263 近軸光線追跡, 6
波動器, 216 長波通, 285
波速, 94 非光參數過程, 235
波腹, 61 非色散, 227
波節, 61 非均向性介質, 93
波數, 56, 94 非相干性光源, 66
波耦合方程式, 239 非晶形二氧化矽, 341
波導色散, 400 非晶矽, 461
波導耦合器, 232 非尋常光, 111
法向量, 103 非尋常光折射率, 124
法拉第, 377 非週期性晶格極化反轉鈮酸鋰, 242
法拉第定律, 106 非線性元件, 205
法拉第旋轉, 114 非線性光學, 95, 194, 213, 223
物理氣相沉積技術, 463 非線性光學混頻, 224
物焦距, 5 非線性電光效應, 235
物鏡, 24
直流場, 231 – 九劃 –
直接能量武器, 218
直視型, 375 亮度, 82
空乏區, 456 信號回饋, 396
空間光孤子, 225 施體, 455
空間光調制器, 447 染料敏化太陽能電池, 466
空間光調製器, 444 侷限, 397
空間式色彩合成, 384 前焦距, 6
空間同調長度, 70 前段 Array, 128
空間相干性, 67 負型液晶, 124
空間頻率, 56 負單光軸材料, 124
499
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光電科技概論
負單軸晶體, 111 後焦距, 3

負折射, 349 後段 Module Assembly, 128
活躍材料, 201 恰賓, 451
活躍層, 216 穿透係數, 268
活躍離子, 201 穿透軸, 100
重力波, 96 紅寶石雷射, 224
面射型雷射, 401 美國材料試驗協會, 454
重疊式色彩合成, 384
垂直式溫度梯度冷卻法, 308 – 十劃 –
垂直步氏法, 308
垂直配向, 121 飛秒, 194
面偏振, 44, 45 准相位匹配, 225, 240
面偏振光, 45 原子基態, 235
面偏振狀態, 44, 45 差頻, 224
玻璃, 215 庫倫障礙, 218
客主型, 380 徑向焦平面, 20
建設性干涉, 51, 270 振幅, 80–82, 84, 86
相量, 228 振幅分光, 54
相速度, 102, 400 振幅調制器, 232
相干性, 51, 53 時間共享式色彩合成, 384
相干度, 66 時間同調程度, 46
相干度因子, 67 時間相干性, 67
相干長度, 68, 269 柴氏長晶法, 460
相干光源, 66 氣態雷射, 214
相角, 94 海丁格條紋, 75
相位, 53, 81, 82, 94, 334 真空螢光顯示器, 375
相位匹配, 229, 237 真空雜訊波, 231
相位因子, 96 破壞性干涉, 51, 270
相位改變量, 328 砷化鎵, 461
相位板, 128 窄帶濾光片, 285
相位差, 53 純量, 96
相位調制器, 232 純量波, 96
相位鎖定, 213 純量場的模型, 332
相對介電常數, 105 脈衝, 213, 400
相對磁導率, 105 能流密度, 103
500
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索引
能量密度, 103 被動式矩陣, 125

能階, 195 液塞柴氏生長法, 308
能隙, 455 液態雷射, 214
配色函數, 297, 300 寄主材料, 201
針插畸變, 22 密波長多工器, 241
閃光燈, 202 崩潰, 116
閃爍式燈泡, 464 起偏器, 115
馬克斯威爾, 52, 93 張量, 236
馬克斯威爾方程式, 52, 96, 226, 237 張量波, 96
高分子光聚合物, 444 強度, 334
高反射鏡, 285 強誘電型, 380
高斯分布, 234 彗星像差, 10
高斯光束, 208 軛, 389
高斯定律, 96 彩虹全像術, 182
高階模態, 399 彩度, 299
高溫多晶矽液晶板, 376 連續波, 53
高頻項, 60 連續波輸出, 213
球面, 102
– 十一劃 – 球面波, 57
球面像差, 10
液相磊晶, 309 捲繞傳輸, 461
液晶, 119, 375 硒, 451
液晶形變接面, p − n , 452
伸展, 120 偵測器, 54
扭轉, 120 側膝核, 295
彎曲, 120 偏振, 93, 98
液晶矽板, 376 偏振元件, 204
液晶排列方式偏振分光鏡, 285
向列型, 120 偏振片, 100, 172
近晶型, 120 偏振狀態, 44, 45, 98
膽固醇型, 120 偏振密度, 226
液晶顯示器, 125 偏振態, 99, 442
STN 型, 126 偏極化分光鏡, 427
TN 型, 126 偏極性, 53
主動式矩陣, 125 偏微分方程式, 43
501
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光電科技概論
第一主點, 5 斐索, 52
第一焦距, 5 斐索干涉儀, 52
第一焦點, 5 晶體, 215
第一節點, 5 晶體光學, 93
第二主點, 5 透明導電玻璃, 126
第二焦點, 5 透明導電膜, 463, 465
第二階諧波, 224 透射式投影顯示器, 376
第二節點, 5 透鏡, 54
區域性的電場, 202 部份相干性, 66
參考波長, 273 部份偏振的, 100
旋光性, 93, 113, 126 都普勒免除雙光子吸收光譜, 225
旋性, 98 陰極射線管, 375
旋度定理, 106 陶瓷, 215
旋轉橢球面, 111 傅氏分析, 91
望遠鏡, 24 傅氏光學, 79, 82, 83, 86, 89–91
梯度, 102 傅氏級數, 85, 91
國際照明協會, 300 傅氏轉換, 91
國際電訊聯盟, 404 單光軸介質, 123
國際標準組織, 454 單色平面波, 47
桿狀細胞, 294 單色光, 44
桶形畸變, 22 單色光非點光源, 70
基板, 216 單色波, 45, 47
基礎模態, 399 單色點光源, 67
培生, 452 單軸晶體, 103, 107
莫雷, 52 單模光纖, 399
條紋間距, 62, 64 場序法成像, 391
場發射陣列, 383
– 十二劃 – 場發射顯示器, 375
氬離子, 193
蛋白石, 341 游離, 377
被動矩陣式, 375 減速輻射, 202
規一化 Jones 向量, 98 測量, 116
惠更斯, 51 富立葉轉換, 227
散度定理, 106 富勒, 451
散射, 100 尋常光, 111
502
或來電(02)2705-5066
索引
尋常光折射率, 124 量子態, 115

發光二極體, 304, 309, 310 開路電壓, 457
發光層, 401 開關, 213
發射式投影顯示器, 376 雲母, 110
發散角, 206, 207 黑體輻射, 45, 145, 231
短波通濾光片, 285
短路電流, 457 – 十三劃 –
等厚度干涉條紋, 75
等相面, 95 微型顯示器, 376
等效光程, 128 微晶矽, 461
等效折射率, 272 微機電系統, 367
等傾度干涉條紋, 75 微光機電系統技術, 368
等頻率面, 102 感光細胞, 294
絕對振幅, 94 超寬頻譜光源, 348
腔長, 206 超扭曲向列型, 375
菲涅耳, 52 稜鏡, 205
菲特, 451 軸向模, 204
虛設層, 272 雷射, 191, 193
視交叉, 295 染料雷射, 202
視神經, 295 氦氖雷射, 202
視場彎曲, 10 氦鎘雷射, 202
視網膜, 294, 295 雷射切割, 219
焦平面, 87 雷射手術刀, 219
焦距, 87 雷射牙醫技術, 219
無偏振狀態的, 100 雷射光譜學, 206
無球面像差點, 16 雷射加速器, 218
週期, 56 雷射共振腔, 200
週期性晶格極化反轉鈮酸鋰, 242 雷射列印, 221
量子力學描述, 103 雷射冷卻與陷阱, 218
量子平行運算, 116 雷射陀螺儀, 60, 221
量子位元, 116 雷射指標, 219
量子效率, 403 雷射美容手術, 219
量子密碼術, 116 雷射核融合, 218
量子資訊, 114, 115 雷射退火, 387, 464
量子電腦, 116 雷射針灸, 219
503
或來電(02)2705-5066
光電科技概論
雷射偏極光譜, 225 電耦極陣列, 237

雷射條碼, 221 電幫浦, 197, 215, 216
雷射焊接, 219 電離, 377
雷射陷阱與冷卻, 194 群速度, 102
雷射測距儀, 219 預傾角, 122
雷射筆, 221 飽和吸收, 213
雷射腔, 200 飽和電流, 457
雷射腔能量傾倒, 205 極化, 104
雷射雷達, 221 極化片, 172
雷射層狀角膜重塑術, 219 極化率, 226
雷射熱處理, 220 楊氏干涉, 51
雷射導引精靈武器, 218 鈮酸鋰, 404
雷射雕刻及標示, 220 溶致液晶, 119
雷射顯示技術, 220 亂相多工, 447
雷射顯微術, 218 傳遞過程, 7
電子, 40 傳播光耗損, 398
電子束微影法, 347 傳播快軸, 125
電子束劑量, 350 傳播常數, 56, 329
電光效應, 93, 114 傳播慢軸, 125
電光調制器, 205, 213 準分子雷射, 202
電位能障, 452 傳導帶, 455
電位移, 105 補償板, 74
電位移場, 105 傾角, 97
電洞, 455 傾腔, 205
電容率, 105 瑞利散射, 454
電偶極, 104, 226 圓偏振, 44, 45
電偶極矩, 226 畸變, 3, 10
電荷空乏區, 402 載子, 452, 455
電場, 79, 80, 82, 88, 93, 325 載具, 395
電極化, 104
電極化率, 104 – 十四劃 –
電磁波, 41, 52, 267
電磁理論, 93 運動行為, 377
電漿, 375 慢軸, 115
電漿處理, 464 截止, 331
504
或來電(02)2705-5066
索引
摻雜, 242 歐姆接點, 457

漂移, 403 熱囤積, 217
銦錫氧化物玻璃, 126 熱致液晶, 119
赫茲, 52 劈裂的晶體面, 401
像素, 389 增益介質, 199, 200
像散, 3, 10 增益飽和, 200
像散法, 430 增感材料, 201
銅銦硒化物, 461 增感離子, 202
磁偶極, 104 線, 44, 49
磁通密度, 105 線形共振腔, 204
磁場, 93, 325 線性光學, 95
磁極化, 104 線性電光效應, 231
磁極化率, 105 線性疊加, 58, 94
磁感應, 105 線偏振, 44, 45
磁導率, 103 線偏振光, 98
閥值, 206 緩慢振幅變化, 239
碲化鎘, 461 耦合長度, 404
對比度, 47 耦合率, 402
對稱膜堆, 278 耦合器, 404
綠光雷射筆, 200 膜矩陣, 271
複合全像術, 182
– 十五劃 – 複數兩重積分, 91
複數振幅, 82–84, 91, 96
價帶, 455 調制, 114
價電子, 455 調制項, 60
寬帶通濾光片, 285 調制傳播常數, 60
廣義相對論, 96 調制器, 205
彈性波, 96 調制頻率, 60
摩擦, 121 調變, 397
數位多功能光碟, 435 磊晶, 216
數位振鏡式, 376 駐波, 61
數值孔徑, 398, 423, 435, 439, 443
標準光源, 293 – 十六劃 –
模場, 330
模態, 329, 399 導電率, 464
505
或來電(02)2705-5066
光電科技概論
橫向色差, 10 錨定力, 121

橫波, 52, 96 縱向色差, 10
橢率, 97 縱向同調程度, 46
橢圓, 97 縱模, 204, 206
橢圓偏振, 44, 45
橢圓偏振光, 98 – 十八劃 –
積體光路, 332
積體光學, 242 歸一化頻率, 343
積體光學元件, 332 簡併因子, 236
螢光, 195 簡諧振動, 54
輻射強度, 267 繞法, 97
輻射結合, 378 繞射, 171, 176
輸出耦合鏡, 204 繞射極限, 206, 423
激發態, 195 藍移, 266
激發輻射, 192 轉置矩陣, 343
激勵放射, 401 鎖模, 205, 213
雙光子吸收顯微術, 218
– 十七劃 – 雙光子或多光子吸收, 225
雙色分光鏡, 285
幫浦, 196, 200 雙折射, 93, 109, 240
檢偏器, 115 雙折射相位匹配, 240
瞬時振幅, 94 雙折射效應, 119
錐狀細胞, 294 雙狹縫干涉, 52
靜態隨機存取記憶體, 389 雙軸晶體, 107
頻率, 53, 94 點光源, 57
聲子, 225 點缺陷, 347
聲光效應, 93, 114, 225 擴束, 206
聲光調制器, 205, 213 擴散長度, 452
薄膜太陽能電池, 461 擺動器, 216
薄膜光學, 263
薄膜電晶體, 125, 375 – 十九劃 –
邁克遜, 52
邁克遜－莫雷實驗, 52 穩定共振腔, 203
邁克遜干涉儀, 51 譜線寬度, 207
邁射, 191 邊界條件, 204
506
或來電(02)2705-5066
索引
邊射型, 212
邊射型雷射, 401
邊緣光線, 8
鏡面, 401
類比式, 424
類似中性氣體, 377
– 二十一劃 –
躍遷, 195
– 二十二劃 –
疊加原理, 94
– 二十四劃 –
靈敏度, 403
507
或來電(02)2705-5066
光電科技概論／國立中央大學光電科學與工
程學系著. －－二版.－－臺北市：五南,
2010.03
　面；　公分
ISBN 978-957-11-5937-9 (平裝)
1.光電科學 2.光電工程
448.68 99003339
5DA7
光電科技概論
Introduction to Optics and Photonics
作　　者 ─ 國立中央大學光電科學與工程學系
發行人 ─ 楊榮川
總編輯 ─ 龐君豪
主　　編 ─ 穆文娟
責任編輯 ─ 陳俐穎
封面設計 ─ 簡愷立
出版者 ─ 五南圖書出版股份有限公司
地　　址：106台北市大安區和平東路二段 3 3 9 號 4 樓
電　　話：(02)2705-5066　　傳　　真：(02)2706-6100
網　　址：http://www.wunan.com.tw
電子郵件：wunan＠wunan.com.tw
劃撥帳號：0 1 0 6 8 9 5 3
戶　　名：五南圖書出版股份有限公司
台中市駐區辦公室/台中市中區中山路6號
電　　話：(04)2223-0891　　傳　　真：(04)2223-3549
高雄市駐區辦公室/高雄市新興區中山一路290號
電　　話：(07)2358-702　　傳　　真：(07)2350-236
法律顧問　元貞聯合法律事務所　張澤平律師
出版日期　2 0 0 8 年 8 月初版一刷
　　　　　2 0 1 0 年 3 月二版一刷
定　　價　新臺幣 8 5 0 元
※版權所有．欲利用本書內容，必須徵求本公司同意※
或來電(02)2705-5066

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李正中 & 楊宗勳

2.8 單色波 ——— 無限長弦波 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 47

5.2 光在均向性介質中的傳播 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 101

5.3 光在非均向性介質中的傳播 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 107

第6章 液晶光學 119

6.1 液晶分子的基本特性 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 119

6.2 液晶分子的光學特性 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 123

6.3 液晶顯示器簡介 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 125

6.4 矩陣光學在液晶的應用 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 128

第7章 光電材料 133

7.2 晶體與非晶體材料 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 133

7.3 折射率與均向性、非均向性材料 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 133

7.5 非線性光學材料 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 136

7.6 液晶材料 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 138

7.7 半導體材料 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 140

7.8 矽半導體材料 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 141

7.9 矽太陽能電池 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 141

7.10 矽微光機電材料 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 142

7.11 III-V族發光二極體 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 142

第8章 輻射與檢測 145

8.2 黑體輻射 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 145

8.4 光度學 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 160

8.5 檢測原理 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 161

第9章 全像術 171

9.2 干涉與繞射 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 175

9.3 全像術 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 179

10.3 雷射結構 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 200

10.4 雷射特性與輸出 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 205

10.5 雷射種類 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 214

10.6 雷射應用 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 216

11.3 應用與發展 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 241

12.1 歷史回顧 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 246

12.2 光學檢測原理 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 248

12.3 各種不同的光學元件檢測法 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 253

12.4 未來發展 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 259

13.2 自然與人造光學薄膜 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 264

13.4 光學薄膜的種類 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 275

13.5 應用與發展 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 284

14.1 色彩的意義 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 291

14.2 描述顏色的方法 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 297

15.2 N 型半導體與P 型半導體 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 305

15.3 如何製作半導體 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 308

15.4 半導體光電元件 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 310

16.2 光在波導內的傳輸特性 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 325

16.3 積體光學的應用 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 331

16.4 未來發展 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 336

17.1 什麼是光子晶體 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 339

17.2 光子晶體理論簡介 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 341

17.3 光子晶體在光電方面的應用 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 347

17.4 未來發展 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 351

18.2 自由空間及光波導 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 358

18.3 折射式光學元件與繞射式光學元件 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 358

18.4 製作方式 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 359

18.5 繞射式光柵 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 359

18.6 折射式微光學透鏡 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 360

18.7 繞射式光學透鏡 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 361

18.8 複合功能元件 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 362

18.9 Iterative Method . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 363

19.1 微機電基本技術 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 368

19.2 技術發展歷程 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 368

19.3 微光機電元件應用 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 371

20.2 直視型顯示技術 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 376

20.3 投影顯示技術 . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 383

第6章液晶光學 119

第7章光電材料 133

第8章輻射與檢測 145

第9章全像術 171

% 1.1 (a) D 5 (b) `£5ÐrL

% 1.2 (a) Ï×xFGNF (b) ÏÞxF¡NF

如圖 1.2(a)所示，一束平行光線從右(像方)射入一鏡組後聚焦在光軸上一

近軸光線追跡 (paraxial ray tracing)[5] 之折

% 1.4 (a) a5Ä(b) aFLÄ

圖 1.4(b) 近軸光線追跡傳遞過程(transfer process) ， hj 與 hj+1 分別光線在兩

光學系統有一光圈(aperture stop) 存在，而光學系統擋光最多地方即光圈位

設在光圈上主光線收歛角 ūS = −0.01 (可設任意值)，主光線在光圈高度

折射率正確度在 400nm ∼ 700nm 間達 ±3 × 10−6 ；而在 365nm ∼ 400nm 和

% 1.7 (a) ®P (b) .+Ý÷`a

% 1.8 Schott 2¥.+Ëv

% 1.9 (a) 2`÷ - (b) Á'-

% 1.10 ßD`U'-(a) U'- ë(b) U'- ë

% 1.11 (a) ¦« -(b) `nÏE¦« -ÝÅ(

所以 aplanatic 點滿足正弦條件(sine condition) ，在後面介紹彗星像差時，會求

% 1.13 (a) ûÏ -Ýã¼(b) ûÏ -

第1.28式即為光學正弦定理(optical sine theorem) ，當 u 與 u0 角度很小時，則

第1.29式為拉式不變量(Lagrange invariant) 。

% 1.14 CWûÏ -F5µ

由1.30式很容易得出光學正弦條件(sine condition) ，如

像散，如果像點聚焦在切向焦平面(tangential focal plane) 上則徑向影像變模糊，