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6,290,749 B1)
Descripcin detallada de la patente
La plata impura mezclada la cual es usada como el material de partida
para la manufactura de polvo de plata mezclada contiene contaminantes
metlicos y/o no metlicos. los contaminantes pueden ser algunos de un
muy largo nmero y pueden ser, por ejemplo, oro, platino, cobre, hierro,
zinc, nquel, sulfuros, plomo. La invencin de procesos ms tiles en la
purificacin de plata impura contaminada tanto con contaminantes
metlicos como no metlicos. la plata impura puede venir de una
variedad de industrias y puede incluir lo siguiente no limitativo, ejemplo:
plata formada de la purificacin de fundicin, plata metlica recuperada
de fotografa de rayos X, electrolito de celdas electrolticas (por ejemplo,
como nitrato de plata acuoso) y oxido de plata formada durante la
purificacin de nitrato de plata.
En el primer paso del proceso, la plata impura contaminada es disuelta
en cido ntrico para formar una solucin de nitrato de plata. La matriz
de la mezcla puede incluir, pero no se limita a, metal de plata y xido de
plata. La matriz debe ser soluble en cido ntrico y como tal la plata se
opone a haluros. La disolucin de la mezcla que contiene plata se lleva a
cabo tpicamente entre 90 C y 100 C, pero puede ser hecho a alguna
temperatura adecuada. la ecuacin para la disolucin de plata metlica
en cido ntrico es descrita en eq 1 mientras eq 2 describe el proceso de
disolucin de xido de plata.