Fotoelasticidade

Fotoelasticidade
 Fotoelasticidade

1 - Introduo
uma tcnica experimental que utiliza modelos de materiais
transparentes (polmeros, vidro, semi condutores, etc) ao tipo de luz
empregada (branca, amarela, infra-vermelho, monocromtica) e que
apresentam anisotropia tica ou birrefringncia (diferentes ndices
de refrao nos diversos planos que passam por um ponto do
modelo) quando deformados e so observados atravs de luz
polarizada plana ou circular num instrumento chamado de
polariscpio.

muito utilizada no Laboratrio (geralmente mtodo de

transmisso) e no campo (geralmente mtodo de reflexo).

uma tcnica de campo global, que fornece indicaes dos pontos

mais sobrecarregados, valores de tenses cisalhantes mximas,
direes principais e pode ser aplicada em problemas 2D e 3D
estticos.

Existem extenses de aplicao denominadas fotoplasticidade,

fotoelasticidade dinmica, etc.
 Fotoelasticidade
A fotoelasticidade utilizada para a:
Determinao precisa de fatores de concentrao de tenses em
problemas biaxiais e triaxiais.
Determinao quantitativa ou qualitativa de distribuies de tenses em
componentes, localizando seus pontos mais solicitados, sua tenso
cisalhante mxima (no plano) e suas direes principais.
Determinao de tenses residuais em prottipos polimricos ou de
vidro para inspeo e controle de produo (CDs, lmpadas,
parabrisas,...).
 Fotoelasticidade

A resposta fotoelstica consiste de duas famlias de franjas que so

observadas no modelo ou prottipo:

Franjas isocromticas: lugares geomtricos dos pontos que possuem

as mesmas diferenas de tenses principais. A relao entre a
diferena das tenses principais no ponto em observao e a chamada
ordem de franja isocromtica dada pela expresso de Brewster:

N
I II f
t
onde:
N = ordem de franja isocromtica medida no ponto que est sendo
observado.
t = espessura do modelo.
f = calibrao tica do material fotoelstico para o tipo de luz usado.

Franjas isoclnicas: lugares geomtricos dos pontos cujas direes

principais fazem ngulos iguais a 0o ou 90o com os eixos do polariscpio.

Polariscpio: o instrumento bsico da fotoelasticidade. Geralmente utiliza

luz plana ou circular.
 Fonte de Luz (branca ou monocromtica) Fotoelasticidade

P
Modelo

Filtro Polarizador
Filtro de de onda

Modelo transparente carregado

I posicionado no polariscpio
I
II
N
Espessura t I II f
t
Filtro de de onda
Filtro Analisador

Observador
 Fotoelasticidade
2 - Luz e Polarizadores
A teoria eletromagntica de propagao da luz explica o efeito fotoelstico. A
equao de onda est dada abaixo. Sua soluo o espao de funes
harmnicas que podem se resumir a uma soma de senos e cossenos. Se luz
branca for utilizada, todos os comprimentos do espectro visvel sero importantes.
Se luz monocromtica for usada, apenas o seu comprimento de onda ser
importante. A resposta fotoelstica estudada a partir do que ocorre com um
comprimento de onda apenas e depois, se necessrio, a superposio de solues
com outros comprimentos de onda feita.
Vetores eltricos que representam
a luz vibrando nos diversos planos
Equao de onda:
Filtro polarizador
2 P
1 E
2E
c 2 t 2
2E 1 2E
unidirecio nal
2
z c 2 t 2
E Eo cos( wt )
EP
w 2f
1
T
f
T .c
Plano de polarizao
 Fotoelasticidade

3 - Retardador de Ondas
Provoca um atraso entre o vetor eltrico que passa paralelo ao seu eixo lento (L) e
o vetor que passa paralelo ao seu eixo rpido. A luz polarizada plana, que entra no
retardador, sai elptica ou circular. Ela ser circular se o atraso for de do
comprimento de onda e se ER = EL.

E
R L

EL
Filtro retardador ER

d
Luz circular: 4 d
E R E
L

Luz plana: d 0
4 - Polariscpio Plano Fotoelasticidade

Consiste de uma fonte de luz e de dois filtros polarizadores que geralmente

esto cruzados. usado para a observao simultnea de franjas isoclnicas
e isocromticas. O nome plano vem da luz polarizada plana que se propaga
na regio entre os filtros polarizadores.
P

E
Direo de
propagao

Polarizador
I=0
A

Polarizador -
Analisador
 5 - Polariscpio Circular Fotoelasticidade

P usado para a observao de franjas isocromticas. O

nome circular vem da luz polarizada circular que se
propaga na regio entre os retardadores de de onda. O
arranjo mais comum aquele que usa pares de filtros
E cruzados (polarizadores e retardadores).

R L

Direo de
propagao
EL
L R

E
ER
Polarizador

Filtro de

I=0
Filtro de
A

Polarizador -
Analisador
 6 - Modelo de Material Birrefringente Fotoelasticidade

Os materiais fotoelsticos so chamados de birrefringentes. Eles

apresentam diferentes ndices de refrao segundo os planos das
tenses principais. Assim, estes materiais trabalham como
retardadores de ondas, a retardao dependendo do material, do tipo
de luz utilizada e da diferena entre as tenses principais.

N d D
E I II f f f
t t . 2 .t
N
I II f
t
1
I f f
I E
II
Espessura t
EII EI

Ordem de franja N
f= calibrao tica ou valor da franja
Retardao linear d d
Retardao angular D
Comprimento de onda
 7 - Modelo no Polariscpio Plano Fotoelasticidade

A intensidade de luz, I, observada para cada ponto de um modelo de material

birrefringente proporcional ao quadrado da amplitude do vetorr eltrico que
atravessa o analisador e dada por: D
I Ea2 Eo2 .sen 2 2 .sen 2
2
2
P sen 2 0 0,
2
Ento: I 0 se : ou
30o
D
sen 2 0 D 0,2 ,4 ,...
2

Isoclnica de 30o
Direo de
propagao

Polarizador -
Polarizador Analisador

30o
A
 8 - Modelo no Polariscpio Circular Fotoelasticidade

P A intensidade de luz independe das direes principais. Na

posio de polariscpio cruzado tem-se:
D
I Eo2 sen 2
2
L
R D
I 0 se : sen 2 0
2
D 0,2 ,4 ,...

R
Polarizador L

Filtro de

D
N 0,1,2,3,...
2
d
N 0,1,2,3,... Filtro de

D retardao angular A
d retardao linear Polarizador -
N ordem de franja isocromti ca Analisador
 9 Medio da Ordem de Franja Fracionria Fotoelasticidade

P Para um ponto que no tenha intensidade de luz igual a

zero no polariscpio circular cruzado a ordem de franja
fracionria. A intensidade de luz neste ponto igual a:
D
I Eo2 1 cos D sen 2 0
L 2
R

I0

R
Polarizador L

Filtro de

Para uma posio angular do

analisador tem-se: Filtro de

I Eo2 1 cos 2 cos D cos 2 sin 2 sin D
Faz-se ento a pergunta: possvel encontrar-se A
Polarizador -
uma posio girada de tal que I=0?
Analisador
 Fotoelasticidade

Para um dado ngulo de rotao do analisador, os valores de e D

requeridos para a intensidade passar por um mximo ou mnimo dado
por:

I
2 sin 2 sin 2 sin D 0

I
cos 2 sin D cos 2 sin 2 cos D 0
D

Os valores de e D que satisfazem as condies acima para um mnimo de I

so:
n
e D 2n 2
2

Estas condies levam a I=0 no ponto e a ordem de franja nesta

situao do polariscpio ser dada por:

n 2n 2
e N n
2 2
 Fotoelasticidade

O procedimento seguido para a medio da ordem de franja fracionria

chamado de Mtodo de Tardy:
1 Selecionar o ponto a ser medido.
2 Montar o polariscpio plano e gir-lo de modo a passar uma isoclnica
pelo ponto, isto , fazendo I=0 no ponto.
3 Sem mudar o polariscpio de posio, troc-lo de plano para circular
inserindo dois filtros atrasadores de onda de nas posies corretas. A
isoclnica sobre o ponto ir desaparecer e ento I ser diferente de zero.
4 Girar o analisador de um ngulo tal que a intensidade de luz no ponto
se anule.
5 Determinar a ordem de franja no ponto, subtraindo ou somando / de
nA ou nB respectivamente, isto se nA=nB+1, ou seja, dependendo se a
franja que caminhou no sentido do ponto para a zeragem da sua
intensidade de luz era uma franja de maior ou menor valor entre as
adjacentes ao ponto.

P
nA=nB+1 A
B
nB
NP=nA-A /nB+B/
nA
 Fotoelasticidade

10 Cores na Fotoelasticidade
Quando luz monocromtica (apena um comprimento de onda ) utilizada, as intensidades de luz
nos pontos de um modelo variam de pontos totalmente claros a totalmente escuros, entre estes
havendo uma graduao de cinzas. Quando luz branca (todos os comprimentos de ondas)
utilizada, a anulao da intensidade de luz para um comprimento de onda especfico retira este
comprimento do espectro observado, mas os outros comprimentos contribuiro para proporcionar
luz que ento ser colorida. A Tabela abaixo mostra as cores observadas nos pontos de um
modelo quando alguns comprimentos especficos so anulados.

Cor Retardao
Ordem de franja, N
resultante linear, d (nm)
Preto 0 0
Cinza 160 0,28
Branco 260 0,45
Amarelo 345 0,60
Laranja 460 0,80
Vermelho 520 0,90
Roxo 575 1,00
Azul 620 1,08
Laranja 935 1,63
Rosa 1035 1,82
Violeta 1150 2,00
verde 1350 2,35
 Fotoelasticidade

11 Calibrao dos Materiais Fotoelsticos

A calibrao dos materiais fotoelsticos bastante simples e apenas requer o conhecimento do
estado de tenso para algum ponto do modelo a ser estudado. O valor da franja f para o material
depende do comprimento de luz usado, enquanto que o valor K apenas dependente do material.
Geralmente, usam-se os seguintes modelos para calibrao: disco sob compresso diametral,
barra de seo retangular em flexo ou sob trao.

M M
+
P h
-
Ponto do contorno
6M
f
D h2 N

P P
h
P

Ponto central Ponto qualquer

P
f
8P f K . f
DN hN
 Fotoelasticidade

12 Fotoelasticidade por Reflexo

O mtodo, tambm chamado de mtodo da camada birrefringente, uma extenso da
fotoelasticidade tradicional. Ele utiliza uma camada fina de material fotoelstico colada
superfcie (tornada refletora) do prottipo.
Sua principal vantagem a facilidade de emprego utilizando prottipos em situaes reais de
carregamento. muito usado para a localizao de regies sobrecarregadas, para a
determinao das tenses cisalhantes mximas (atuantes em planos normais surperfcie de
observao) e direes principais. O mtodo tem uma exatido razovel para as necessidades
comuns da engenharia e muitas vezes utilizado como uma tcnica preliminar para a seleo de
pontos crticos onde EREs sero instalados.
Fatores a serem considerados que influenciaro a correo de uma anlise de tenses realizada
com auxlio da fotoelasticidade por reflexo:
Sensibilidade, resoluo e exatido.
Efeito de reforo provocado pela camada.
Variao da deformao ao longo da espessura da camada.
Diferena entre os coeficientes de Poisson da camada e prottipo.
 Fotoelasticidade
z 0

Hiptese Ic Is
c
II IIs
1
s I
E
s

s s
II
1
Ec

Ic c IIc

E s II
I
Ec

1 s s s 1 c c c
II I
Fonte de luz Camada birrefringente Is IIs
Es 1 c
E 1
c s

Ic IIc
E s 1 c N . f
E c 1 s 2t
ou
P N . f
1/4 Is IIs
2t
III, Z

1/4
A
2t
II
Observador I
Adesivo e
camada refletora Espcime
 Fotoelasticidade

13 Leis de Semelhana
As relaes entre tenses ou deformaes para modelos e prottipos bi-
dimensionais que trabalham dentro do regime linear - elstico e para
pequenas distores de geometria so as seguintes:

Casos bidimensionais elsticos - estticos t

Equao de predio:

.l 2 .l 2

P
m P p
2
Pp l m
p m. .
Pm l p l
Pp l m t m
p m. . .
Pm l p t p
 Fotoelasticidade

14 Separao de Tenses
Como a definio do estado de tenso 2-D exige o conhecimento de trs informaes
independentes, os dois parmetros medidos no polaricpio, diferena de tenses principais e
direes principais, no so suficientes e ento surge a necessidade de obter-se uma terceira
informao. Geralmente, as tenses mximas ocorrem em pontos dos contornos dos
componentes e estes pontos englobam as superfcies livres, onde as tenses aplicadas so
nulas. Sendo assim, para estes pontos j se tem a informao que uma das tenses principais
(normal ao contorno) nula e a equao bsica da fotoelasticidade fica sendo
t
N . f
I ou II , II ou I 0 Tenso nula no contorno
t livre

Nos caso onde a terceira informao torna-se invivel de ser

obtida por uma anlise rpida do problema deve-se utilizar
um mtodo de separao de tenses. Esta denominao
vem do fato que se deseja conhecer as tenses I e II
separadamente e no apenas a sua diferena I - II .Os
mtodos de separao mais usuais so os seguintes:
Tenso nula no contorno
Mtodos das diferenas de cisalhamento (shear difference) livre
de Frocht e de Filon (baseados nas equaes de equilbrio).
Pontos de influncia, analogia eltrica e de Dally (baseados
nas equaes de compatibilidade).
Extensmetros laterais e extensometria.
Incidncia oblqua
 Fotoelasticidade
Incidncia Oblqua
um mtodo estritamente fotoelstico, exigindo apenas duas ou trs leituras de ordens de franjas
no mesmo ponto, com incidncias normal e oblqua ao plano de observao do espcime. No
caso que se segue, apenas duas leituras de N so necessrias: uma com incidncia normal, Nn,
outra com incidncia oblqua, N. Neste caso realiza-se a rotao de graus em torno do eixo
definido como I.

Incidncia Normal, n Incidncia Oblqua,

Recipiente com fluido com

mesmo ndice de refrao do
espcime

II
I t

IIcos2

N
I II
Nn
f I II . cos 2 f
t. 1
t cos

I f
1
N N n cos
t sin
2

f
II
1
N cos N n
t sin
2
 Fotoelasticidade
15 Materiais Fotoelsticos
Um dos fatores mais importantes numa anlise fotoelstica a disponibilidade do material
apropriado para a confeco do modelo. Infelizmente no existe um material ideal e todos os
materiais existentes apresentam vantagens e desvantagens.

Principais propriedades dos materiais fotoelsticos

Transparncia
Alta sensibilidade (baixo f).
Propriedades lineares e elsticas.
Isotropia e homogeneidade.
Baixo creep.
Alto mdulo de elasticidade.
Nmero de mrito alto: Q = E/ f
Ausncia de efeito de bordo (baixa influncia do tempo e da umidade).
Baixa influncia da temperatura sobre propriedades.
Usinabilidade.
Baixo custo.
Facilidade na aplicao de desmoldantes.
Fundio de grandes volumes.

Principais Materiais
2-D comerciais: Columbia resin CR-39, Homalite 100, PSM-1
2-D: Policarbonato, Polister, Poliuretano, Epxi, Vidros, Gelatinas.
3-D: Resinas epxi.
 Fotoelasticidade
16 Fotoelasticidade Tridimensional
A fotoelasticidade tridimensional exige tcnicas especiais, pois , praticamente, muito difcil ou
impossvel analisar-se um modelo tridimensional utilizando-se um polariscpio de transmisso.
Esta dificuldade causada pelo efeito integrado de desvio dos raios luminosos, provocado pelas
tenses que variam ao longo da trajetria da luz que passa pelo modelo.
O mtodo de anlise 3-D mais utilizado o de congelamento de tenses e corte em fatias do
modelo stress freezing and slice cutting. Este mtodo se baseia no comportamento que alguns
polmeros apresentam quando aquecidos. At uma certa temperatura existem cadeias
moleculares primrias e secundrias. Aps uma temperatura chamada de crtica, Tc, as cadeias
secundrias se desfazem e o mdulo de elasticidade do polmero cai de mais de 100 vezes do
seu valor temperatura ambiente. Estas cadeias, porm, reaparecero aps a temperatura ser
decrescida e tornar-se menor que Tc.

Ligaes primrias E

E/100

T
Tambiente Tc
Ligaes secundrias
 Fotoelasticidade
Se o material fotoelstico 3-D for deformado com um pequeno carregamento quando T>Tc e a
temperatura for ento abaixada lentamente, mantendo-se o carregamento aplicado, as novas
cadeias secundris que surgirem fixaro as deformaes que forma feitas nas cadeias primrias.
Assim ao alcanar-se a temperatura ambiente, Ta, o carregamento poder ser retirados com uma
perda desprezvel da deformao que foi causada quando T>Tc. Fatias dos planos que
interessarem anlise de tenses podero ento ser removidas por usinagem do modelo e
observadas no polariscpio. No corte destas fatias deve-se tomar cuidado para evitar seu
aquecimento, o que poder descongelar as deformaes e mesmo introduzir outras devido ao
posterior resfriamento brusco do modelo. Geralmente, a usinagem feita com intensa
refrigerao, avano e profundidade de corte pequenos e velocidade adequada para o material
polimrico no aquecer em demasia.

2>> 1

Ta 1
P Ta
2
1
P Tc P Ta
 Fotoelasticidade
Deve-se atentar que as tenses principais que resultam de uma anlise de fatias podem no ser
realmente as principais para o ponto 3-D. Neste caso estas tenses resultantes das anlises das
fatias so chamadas de principais secundrias.

Z z
Z z

tzx tzy t tzy t

yz
yz
y y
txz
txy tyx
x
Y Y

X X

Estado de tenso visualizado pela

incidncia de luz na direo X. A resposta
Direo de incidncia de luz e dada pelas isocromticas ser:
observao do modelo
I II X
Nx
tx
f
 Fotoelasticidade

17 Bibliografia
1. Durelli, A.J. e Riley W.F., Introduction to Photomechanics, Prentice-Hall,
Englewood Cliffs, NJ, 1965.
2. Dally, J.W. e Riley, W.F., Experimental Stress Analysis, McGraw-Hill, 4a ed.,
2005.
3. Jessop, H.T. E Harris, F,C., Photoelasticity: Principles and Methods, Dover
Publications, NY, 1950.
4. Kuske, A. E Robertson, G., Photoelastic Stress Analysis, John Wiley & Sons,
NY, 1974.
5. Frocht, M.M., Photoelasticity, John Wiley & Sons, NY, vol.1, 1941, vol.2, 1948.
6. Ramesh, K., Digital Photoelasticity, Springer, 2000.